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董磊

作品数:7 被引量:18H指数:2
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇均匀性
  • 3篇镀膜
  • 3篇镀膜机
  • 2篇底板
  • 2篇真空镀膜
  • 2篇真空镀膜机
  • 2篇真空室
  • 2篇切换装置
  • 2篇自动切换装置
  • 2篇膜料
  • 1篇电子束
  • 1篇光学
  • 1篇光学薄膜
  • 1篇大口径

机构

  • 7篇中国科学院上...

作者

  • 7篇董磊
  • 6篇范正修
  • 6篇易葵
  • 6篇邵建达
  • 3篇范瑞瑛
  • 3篇方明
  • 2篇孙伟金
  • 2篇马小凤
  • 2篇田光磊
  • 2篇沈健
  • 1篇赵元安

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇功能材料
  • 1篇第五届中国功...
  • 1篇第五届中国功...

年份

  • 1篇2007
  • 3篇2005
  • 3篇2004
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
大口径光学薄膜均匀性的研究
该文的研究内容主要包括:大口径光学薄膜厚度的分布及其均匀性修正,蒸发源蒸发特性的模拟和实验验证以及薄膜光学不均匀性的修正。 在镀制光学薄膜的时候,膜厚均匀性是一个重要问题。膜厚的均匀性不好,将严重影响薄膜的特性...
董磊
关键词:光学薄膜均匀性电子束
文献传递
不同类型蒸发源对平面夹具薄膜均匀性的影响被引量:14
2005年
分析了几种可能的实际蒸发源与薄膜均匀性的关系,其中包括扩展的平面蒸发源和曲面蒸发源。通过实验论证了薄膜均匀性对蒸发源尺寸和蒸发特性的依赖关系。得到的分析结果表明:当蒸发源半径和夹具高度的比值小于1/17时,蒸发源可以被视为一个点面源;大于1/10时,应当把蒸发源视为面面源进行考虑。当挖坑深度和蒸发源半径的比值介于0和0.5之间时,挖坑对薄膜均匀性造成的影响基本可以忽略;大于0.6时,挖坑效应明显影响薄膜的均匀性。
董磊赵元安易葵邵建达范正修
关键词:均匀性
真空镀膜机中修正挡板的自动切换装置
一种真空镀膜机中修正挡板的自动切换装置,其构成是:在采用多个膜料蒸发源和对应的多块修正挡板的真空镀膜机中,对每一膜料蒸发源的每一块修正挡板设置一个伞式机械装置,该伞式机械装置包括在靠近膜料蒸发源真空室底板上竖直地安装一修...
董磊田光磊马小凤易葵邵建达范正修孙伟金沈健
文献传递
真空镀膜机中修正挡板的自动切换装置
一种真空镀膜机中修正挡板的自动切换装置,其构成是:在采用多个膜料蒸发源和对应的多块修正挡板的真空镀膜机中,对每一膜料蒸发源的每一块修正挡板设置一个伞式机械装置,该伞式机械装置包括在靠近膜料蒸发源真空室底板上竖直地安装一修...
董磊田光磊马小凤易葵邵建达范正修孙伟金沈健
文献传递
大口径镀膜机均匀性的研究
对于大口径镀膜机的均匀性特性进行了研究,得到了一组厚度分布曲线,并对曲线进行了分析;利用这些实验结果,运用新理论设计出了具有实用性的修正挡板,均匀性可稳定的达到3‰.
董磊方明易葵范瑞瑛邵建达范正修
关键词:均匀性镀膜机
文献传递
大口径镀膜机均匀性的研究
对于大口径镀膜机的均匀性特性进行了研究,得到了一组厚度分布曲线,并对曲线进行了分析;利用这些实验结果,运用新理论设计出了具有实用性的修正挡板,均匀性可稳定的达到3‰。
董磊方明易葵范瑞瑛邵建达范正修
关键词:均匀性
文献传递
大口径镀膜机均匀性的研究被引量:5
2004年
对于大口径镀膜机的均匀性特性进行了研究,得到了一组厚度分布曲线,并对曲线进行了分析;利用这些实验结果,运用新理论设计出了具有实用性的修正挡板,均匀性可稳定的达到3‰.
董磊方明易葵范瑞瑛邵建达范正修
关键词:均匀性
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