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方明

作品数:37 被引量:65H指数:6
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 17篇专利
  • 15篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 15篇理学
  • 4篇机械工程
  • 4篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 12篇光学
  • 9篇激光
  • 6篇等离子体
  • 6篇接收器
  • 6篇均匀性
  • 6篇激光等离子体
  • 6篇光束
  • 5篇镀膜
  • 5篇尾波
  • 4篇镀膜机
  • 4篇双光束
  • 4篇驱动模块
  • 4篇膜厚
  • 4篇光学元器件
  • 4篇薄膜厚度
  • 4篇薄膜应力
  • 3篇转角
  • 3篇光学薄膜
  • 3篇采集卡
  • 2篇等离子体通道

机构

  • 37篇中国科学院上...
  • 7篇中国科学院研...
  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 37篇方明
  • 17篇范正修
  • 13篇邵建达
  • 12篇易葵
  • 10篇贺洪波
  • 7篇刘建胜
  • 7篇王文涛
  • 7篇王成
  • 7篇冷雨欣
  • 7篇齐荣
  • 7篇余昌海
  • 7篇冯珂
  • 7篇吴颖
  • 6篇范瑞瑛
  • 5篇李文涛
  • 4篇邵淑英
  • 4篇陈明星
  • 4篇曾爱军
  • 4篇朱冠超
  • 4篇黄惠杰

传媒

  • 5篇光学学报
  • 3篇中国激光
  • 3篇强激光与粒子...
  • 1篇光子学报
  • 1篇功能材料
  • 1篇计算物理
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇第五届中国功...
  • 1篇第五届中国功...

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 3篇2017
  • 3篇2016
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 3篇2010
  • 4篇2009
  • 3篇2008
  • 5篇2006
  • 3篇2005
  • 4篇2004
37 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
支撑光学组件的同步转角机构
一种支撑光学组件的同步转角机构,特点在于其构成包括基座、第一菱形机构、第二菱形机构、发射源、接收器以及驱动模块,本发明适用于两组光学元器件绕共同轴同步反向旋转,是一种具有结构简单、装调方便、且共同旋转轴的轴向没有任何装置...
程伟林曾爱军陈明星林栋梁杨增辉黄惠杰贺洪波方明
文献传递
双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置及其测量方法
一种双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置及其测量方法,该装置包括搭建在镀膜机真空室外的半导体激光器、双光束分束准直器、晶控仪、位敏光电探测器、A/D采集卡和计算机,以及安装在真空室内的第三反射镜,晶控探头。半导体激光光束...
朱冠超方明申雁鸣易葵
文献传递
同步转角仪
一种同步转角仪,其特征在于由双椭圆规机构和平行四边形机构组合构成,包括基座、第一直线滑动模块、第二直线滑动模块、第三直线滑动模块、第一双椭圆规机构、第二双椭圆规机构、发射源、接收器和驱动模块。该转角仪适用于两组光学元器件...
程伟林曾爱军陈明星黄惠杰贺洪波方明
文献传递
平面行星夹具的物理气相沉积均匀性计算被引量:6
2006年
建立了平面行星夹具薄膜淀积无量纲模型,通过对蒸发源位置L/H、行星主轴与副轴距离P/H、夹角倾角A以及蒸发源蒸汽发射特性N等因素的分析,得到了典型径向理论均匀的优化几何配置.并从优化几何配置的膜料效率、角向均匀性和膜厚分布对蒸发源蒸汽发射特性变化的敏感性方面评价优化结果,得到了最优化设计区域.结果表明,优化配置的L/H+P/H小,则角分布差异小;L/H+P/H和A小,则膜料效率高;LP时,由N变化引起的典型径向分布变化小于0.5%.
方明范正修黄建兵
关键词:均匀性计算机模拟
紫外Sc2O3薄膜的光学和结构性能表征及其激光作用下的损伤机理被引量:2
2010年
利用电子束蒸发方法,在不同沉积温度(50~350℃)下制备了Sc2O3薄膜。分别用分光光度计,小角掠入射X射线衍射仪和轮廓仪测试了薄膜样品的光谱、微结构和表面粗糙度信息,并用薄膜分析软件Essential Macleod计算了Sc2O3薄膜的折射率和消光系数。结果表明:随着沉积温度升高,Sc2O3薄膜结晶程度增强,晶粒尺寸增大,且较高的沉积温度有利于获得较高的折射率。最后用355 nm,8 ns的三倍频Nd:YAG激光器测试了其激光损伤阈值(LIDT),最大值为2.6 J/cm2,且阈值与薄膜的消光系数、表面粗糙度、光学损耗均呈现相反的变化趋势。用光学显微镜和扫描电子显微镜表征了该薄膜的破坏形貌,详细分析了薄膜在不同激光能量作用下破坏的发展过程,以及Sc2O3薄膜在355 nm紫外激光作用下LIDT与制备工艺的关系,重点分析了355 nm激光作用下薄膜的破坏机理。
刘光辉薛春荣晋云霞张伟丽方明贺洪波范正修
关键词:沉积温度光学性能结构性能激光损伤阈值
Sc_2O_3替代层在532nm高反膜中的应用被引量:2
2009年
将Sc2O3替代层引入到532 nm高反膜(HfO2/SiO2)n中,利用Sc2O3在盐酸中具有较好的溶解性这个特点,把膜层与基片脱离,以方便基片返修,缩短返修周期,降低成本。能量色散谱元素测试表明,脱离后Sc元素残留率为0。用Lamada900分光光度计、WykoNT1100轮廓仪和ZYGO干涉仪分别表征了替代层引入对高反膜的光谱、表面粗糙度和应力的影响,并测试了膜系在532 nm的激光损伤阈值的变化,结果表明Sc2O3替代层的引入对高反膜的性能几乎没有负面影响。
刘光辉方明晋云霞张伟丽贺洪波范正修
关键词:高反膜应力激光损伤阈值抛光
高功率激光器光学元件镀膜前后评价参数探讨
2010年
利用ZYGO MarkⅢ-GPI干涉仪对120 mm×88 mm元件镀膜前后进行了面形测量,获得了峰谷值(PV)和均方根梯度(GRMS),并对镀膜前后的PV,GRMS值进行了比较,发现镀膜后PV,GRMS值分别有所增加,同时对两者进行了线性拟合,结果表明两者在一定程度上存在着线性关系,并从理论上进行了模拟论证。同时对个别样品进行了功率谱密度(PSD)分析,发现镀膜后PSD曲线较镀膜前有所升高,这与基片的抛光程度以及镀膜过程有着密切联系。
胡达飞邵淑英方明齐红基易葵
关键词:表面光学表面形貌功率谱密度
易调节的气体密度测量系统及其测量方法
一种易调节的气体密度测量系统,包括格林棱镜、透镜、直角反射棱镜、可调节光学镜架、水平导轨、CCD,本发明能够有效的测量气体密度的分布,具有操作简单,方便高效,应用范围广泛的优点。本发明利用光束进入直角反射棱镜后平行于原光...
冯珂李文涛王文涛余昌海方明吴颖齐荣张志钧刘建胜王成冷雨欣李儒新
文献传递
激光等离子体加速电子束源的多功能聚焦装置和使用方法
一种基于新型台式化激光等离子体加速器产生的脉宽为飞秒量级的、超高流强、峰值能量抖动范围较大的脉冲电子束的多功能聚焦装置,包括具有可调控梯度的四块组合电磁铁、延时控制器和脉冲响应的荧光板电子束成像系统,本发明不但可以实现对...
方明王文涛刘建胜余昌海齐荣吴颖冯珂王成冷雨欣李儒新
文献传递
一种含离轴抛面镜的激光光路调节方法
本发明公开了一种含离轴抛面镜的激光光路调节方法。离轴抛面镜可以避免激光在穿透介质时所产生的非线性效应,本发明通过使用离轴抛面镜,为保证激光聚焦后的光束质量,在光路调节中,利用公式计算,根据相似三角形的性质将激光光路调节至...
吴颖王文涛方明李文涛齐荣张志钧余昌海冯珂刘建胜王成冷雨欣徐至展
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共4页<1234>
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