张小波 作品数:8 被引量:33 H指数:2 供职机构: 中国科学院金属研究所 更多>> 发文基金: 国家自然科学基金 辽宁省自然科学基金 更多>> 相关领域: 一般工业技术 金属学及工艺 理学 电气工程 更多>>
ZnO:Al(ZAO)薄膜的制备与特性研究 被引量:27 2005年 采用磁控溅射技术制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜.研究了不同的工艺参数对薄膜的组织结构和光电特性的影响.实验结果表明,多晶ZAO薄膜具有(001)择优取向且呈柱状生长,能量机制决定其微观生长状态.讨论了薄膜的内应力,高的沉积温度和低的溅射功率可有效减小薄膜的内应力.优化的ZAO薄膜电阻率和在可见光区的平均透射率可分别达到3×10-4-4×10-4Ω·cm和80%以上. 裴志亮 张小波 王铁钢 宫骏 孙超 闻立时关键词:直流反应磁控溅射 ZAO薄膜 光电特性 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究 采用外加电磁线圈直流磁控溅射法低温制备了ZnO:Al透明导电薄膜,研究了不同沉积参数对AZO薄膜电学性能的影响.通过改变外加同轴线圈磁场来改变基片处等离子体密度,并用Langmuir探针进行了测量.研究结果表明:低温沉积... 张小波 裴志亮 肖金泉 宫骏 孙超关键词:透明导电薄膜 直流磁控溅射法 电磁线圈 电阻率 文献传递 一种磁控管溅射装置 本发明涉及真空镀膜磁控溅射沉积技术,更具体地,涉及一种在真空溅射镀膜时使用的溅射装置,包括:磁控管(1)和电磁线圈(6),彼此同轴相对放置,其中电磁线圈(6)可以沿着磁控管(1)中心轴线远近移动。通过控制电磁线圈(6)的... 肖金泉 张小波 孙超 宫骏 华伟刚 石南林 闻立时文献传递 一种磁控管溅射装置 本发明涉及真空镀膜磁控溅射沉积技术,更具体地,涉及一种在真空溅射镀膜时使用的溅射装置,包括:磁控管(1)和电磁线圈(6),彼此同轴相对放置,其中电磁线圈(6)可以沿着磁控管(1)中心轴线远近移动。通过控制电磁线圈(6)的... 肖金泉 张小波 孙超 宫骏 华伟刚 石南林 闻立时文献传递 一种磁控管溅射装置 本实用新型涉及真空镀膜磁控溅射沉积技术,更具体地,涉及一种在真空溅射镀膜时使用的溅射装置,包括:磁控管(1)和电磁线圈(6),彼此同轴相对放置,其中电磁线圈(6)可以沿着磁控管(1)中心轴线远近移动。通过控制电磁线圈(6... 肖金泉 张小波 孙超 宫骏 华伟刚 石南林 闻立时文献传递 磁场模拟在磁控溅射/阴极弧离子镀中的应用 被引量:5 2015年 针对磁控溅射和阴极弧离子镀沉积技术存在的局限性,采用有限元分析方法(Finite element method,FEM)进行磁场模拟,优化设计外加电磁线圈的结构和磁场分布位形,并应用于磁控溅射沉积透明导电氧化物和阴极弧离子镀沉积硬质薄膜中。分析了外加电磁线圈磁场对磁控溅射等离子体辉光变化、磁控靶磁场平衡度/非平衡度、以及线圈位置对等离子体特性和靶材利用率的影响。设计和制作了轴对称磁场和旋转磁场,研究了它们对阴极弧离子镀弧斑运动形貌和薄膜表面大颗粒等特性的影响。通过控制弧斑运动状态,可以得到不同程度的颗粒分布,实现颗粒的可控沉积,减少薄膜表面大颗粒的污染。 雷浩 肖金泉 郎文昌 张小波 宫骏 孙超关键词:磁控溅射 旋转磁场 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究 采用外加电磁线圈直流磁控溅射法低温制备了ZnO:Al透明导电薄膜, 研究了不同沉积参数对AZO薄膜电学性能的影响。通过改变外加同轴线圈磁场来改变基片处等离子体密度,并用Langmuir探针进行了测量。研究结果表明:低温沉... 张小波 裴志亮 肖金泉 宫骏 孙超关键词:ZNO:AL 透明导电薄膜 反应溅射 电磁线圈 文献传递 反应磁控溅射掺杂ZnO透明导电氧化物薄膜的研究 本论文开展了圆形平面磁控靶的模拟设计和反应磁控溅射ZnO:Al(AZO)薄膜低温沉积工艺的研究。以常规圆形平面磁控靶为典型例子,采用有限元磁场模拟计算分析了磁控靶结构参数的影响;针对外加电磁线圈磁控溅射系统,分析了电磁线... 张小波关键词:磁控溅射 透明导电氧化物薄膜 氧化锌 光学性能