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张津

作品数:10 被引量:12H指数:2
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
相关领域:电子电信兵器科学与技术理学机械工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学
  • 1篇兵器科学与技...

主题

  • 7篇光刻
  • 4篇微米
  • 3篇投影光刻
  • 3篇投影光刻机
  • 3篇物镜
  • 3篇光刻机
  • 2篇调平
  • 2篇亚半微米
  • 2篇亚微米
  • 2篇控制系统
  • 2篇光刻物镜
  • 2篇IC
  • 1篇导引头
  • 1篇电路
  • 1篇动能拦截器
  • 1篇深亚微米
  • 1篇数学模型
  • 1篇水套
  • 1篇套刻
  • 1篇投影物镜

机构

  • 10篇中国科学院

作者

  • 10篇张津
  • 5篇姚汉民
  • 3篇陈旭南
  • 3篇胡淞
  • 2篇唐小萍
  • 2篇唐小平
  • 2篇余国彬
  • 1篇李展
  • 1篇杨维全
  • 1篇罗先刚
  • 1篇张晓宏
  • 1篇苏伟军
  • 1篇胡松

传媒

  • 2篇光电工程
  • 2篇微细加工技术
  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇第十届全国电...

年份

  • 1篇2001
  • 2篇2000
  • 6篇1999
  • 1篇1998
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
亚半微米光刻投影物镜温度补偿控制及算法研究被引量:2
1999年
主要介绍一种光刻机投影物镜温度补偿控制的原理及控制算法。根据系统结构、对象特性和过程指标要求,采用了一种智能型线性-模糊控制器,获得了优良的动态和稳态性能。
张津姚汉民陈旭南唐小平
关键词:投影物镜温度补偿光刻大规模集成电路
光刻物镜自动气压补偿装置
本实用新型公开了一种光刻物镜自动气压补偿装置,它克服了现存技术只能对数值孔径不大的物镜进行环境气压引起的焦面漂移补偿的缺陷。它由内部通道连通光刻物镜内的各透镜而形成与外界大气隔绝的内腔,采用压力传感器检测、单片机控制电路...
陈旭南余国彬张津罗先刚
文献传递
深亚微米投影光刻机逐场调平测量系统原理与设计
一种用于深亚微米投影光刻机的逐场调平测量系统,讨论其工作原理和设计方法,给出部分实验结果。
胡松姚汉民张津
关键词:投影光刻测量系统
亚半微米光刻物镜的恒温水套
一种亚半微米光刻物镜的恒温水套,由恒温水温度控制、恒温水箱、水泵和上下水套构成,它紧套在物镜镜筒外面,通过水套与物镜内部进行热交换,达到物镜内部温度恒定,从而保持物镜的光学性能质量稳定,克服了由于长时间通光或周围环境温度...
陈旭南余国彬张津
文献传递
高精度逐场调焦调平实时动态控制算法研究被引量:2
1999年
主要介绍一种高精度逐场调焦调平实时动态控制算法。逐场动态精确求解耦合传递矩阵和解耦矩阵,将每个 C H I P的坐标位置和尺寸纳入耦合关系,使各控制回路实时独立调节,以满足系统稳定和高精度实时逐场调焦调平。
张津姚汉民唐小平胡淞
关键词:IC光刻
高精度逐场调焦调平控制系统数学模型分析
1999年
详细介绍了基于硅片CHIP中心坐标的高精度逐场调焦调平控制系统数学模型,并简要给出了系统控制算法。
张津姚汉民唐小萍胡淞
关键词:数学模型控制系统硅片
0.35μm投影光刻机逐场调焦调平控制技术研究
该文深入地对逐场调焦调平控制技术作了研究,在基于硅片CHIP内多点高度视频测量的基础上,导出了调平系统数学模型,提出了调平解耦控制算法.建立了执行光学测量、计算机视频图像采集、调焦调平运动控制等功能的实验装置.实验中,有...
张津
关键词:光学光刻解耦控制
文献传递
亚微米i线投影曝光机曝光能量积分和快门控制系统
1999年
主要介绍了亚微米i线投影曝光机上使用的曝光能量积分快门控制系统。论述了新的设计方法和工作原理,在曝光期间挡光快门旋转360°是本系统的一个重要特点。该系统获得了小于0.5%的控制精度。
张津唐小萍
红外导引头大气层内探测能力的仿真分析被引量:4
1999年
讨论了3 ~5μm 波段范围内窗口辐射及大气噪声的分布情况,指出3-3 ~3-6μm 为红外导引头工作的理想波段。对大气透过率和天空背景辐射进行了初步分析,指出高度为其最主要影响因素。采用信噪比来表征导引头系统的探测能力,进行了导引头相关参数的评估和初始化,仿真表明影响导引头探测能力的主要噪声来自光学系统本身,大气透过率对红外导引头探测能力有着直接的影响。
张晓宏杨维全张津
关键词:红外导引头大气层内仿真动能拦截器
全文增补中
0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型被引量:4
1998年
介绍用于 0 .35μm投影光刻机的逐场调平技术 ,讨论其检测和控制原理 ,并作精度分析 ;讨论逐场调平对套刻精度的影响 ,并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。
胡淞姚汉民张津李展曾晓阳苏伟军
关键词:投影光刻机IC
共1页<1>
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