彭开武
- 作品数：17 被引量：16H指数：3
- 供职机构：国家纳米科学中心更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术一般工业技术生物学更多>>
- 缩小投影电子束曝光机的调试技术被引量：1
- 2002年
- 详细介绍了在透射电镜上进行缩小投影电子束曝光技术原理性实验的主要调试过程。它充分利用了透射电镜本身的功能与特点。整个调试方法不仅可获得高分辨率图形 ,而且为下一步的研究工作提供了比较好的工作参数。
- 彭开武张福安顾文琪
- 关键词：电子束曝光机透射电镜TEM
- 电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统
- 电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统，包括CPLD逻辑电路模块(1)、X方向高速光电隔离模块(2)、Y方向高速光电隔离模块(3)、X方向16位高速高精度数模转换模块(4)、Y方向16位高速高精度数模转换模块(5)、...
- 方光荣殷伯华靳鹏云彭开武
- 文献传递
- 利用聚焦离子束设备直接加工悬空绝缘膜的方法
- 本发明涉及微纳加工技术领域，提供一种利用聚焦离子束设备直接加工悬空绝缘膜的方法，包括：将带有悬空绝缘膜的待加工样品固定在载样台上；将待加工图形中的基本单元分割成至少两个子单元；预设各子单元的加工参数，包括各子单元的加工顺...
- 彭开武范伟民郭延军
- FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用被引量：2
- 2013年
- 简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。
- 彭开武
- 关键词：聚焦离子束电子束曝光
- 一种简单的光-电关联方法被引量：3
- 2019年
- 光-电关联显微镜检测是研究荧光材料与生物样品相互作用的有力手段之一.然而,常规电镜样品制备过程中使用的锇酸会引起荧光淬灭,导致光-电关联显微镜观察的失败.本文摸索了一种在室温下进行原位光-电关联显微镜观察的简单方法,避免了样品的冷冻切片与观察.该方法在室温下即可对同一位置、同一细胞和同一细胞器的结构和荧光信号进行观察,通过软件处理,很容易将电镜和光镜图像进行叠加运算获得光-电关联显微镜结果,从而实现了光镜和电镜在室温下的关联检测方法.
- 胡西学郭宏博宫宁强敖卓彭开武甘雅玲
- 电子束缩小投影成像曝光系统研究
- 顾文琪张福安方光荣薛虹靳鹏云彭开武张今朝唐晖初明璋吴桂君王理明
- 该项目通过对电子束缩小投影成像曝光系统的关键技术及相关部件的研究，探索纳米级缩小投影成像曝光、散射型掩模制备及角度限制机理和高精度对准定位等核心技术。项目组制定了详细又切合实际的总体方案和合理可行的技术路线。为加快研究进...
- 关键词：
- 电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统
- 电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统，包括CPLD逻辑电路模块(1)、X方向高速光电隔离模块(2)、Y方向高速光电隔离模块(3)、X方向16位高速高精度数模转换模块(4)、Y方向16位高速高精度数模转换模块(5)、...
- 方光荣殷伯华靳鹏云彭开武
- 文献传递
- 轴承印字机的PLC全自动化控制被引量：2
- 2002年
- 提出一种新型轴承印字方法。结合轴承印字流水线的具体要求 ,详细介绍了以OMRONPLC为主控制器的系统硬件配置、软件结构和实现过程。
- 荀烨彭开武范彧
- 关键词：PLC轴承印字自动控制
- 纳米级高压扫描电子束曝光技术
- 2005年
- 通过简单添加一些附件,将一台带有扫描附件的商用透射电子显微镜改造为一台高压扫描电子束曝光机,以研究高压下高分辨率、高深宽比抗蚀剂图形曝光及邻近效应的影响。重点介绍了如何获得一个高分辨率的电子光学系统,并利用此系统初步进行了曝光实验,在120nm厚的PMMA胶上获得了53nm线宽的抗蚀剂图形,表明此装置可用于纳米图形的制作。
- 彭开武田丰
- 关键词：透射电子显微镜
- 电子束缩小投影曝光系统的掩模研究
- 2002年
- 介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备。
- 吴桂君彭开武张福安顾文琪陈大鹏杨清华刘明叶甜春
- 关键词：掩模透射率下一代光刻
