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文瑜

作品数:2 被引量:7H指数:2
供职机构:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所更多>>
发文基金:苏州市国际科技合作项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信电气工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 1篇带隙
  • 1篇等离子体辅助
  • 1篇电池
  • 1篇射频
  • 1篇太阳能
  • 1篇太阳能电池
  • 1篇晶格
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体质量
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇分子束外延生...
  • 1篇超晶格
  • 1篇INGAAS
  • 1篇INGAN

机构

  • 2篇中国科学院
  • 2篇中国科学院大...

作者

  • 2篇吴渊渊
  • 2篇甘兴源
  • 2篇王乃明
  • 2篇文瑜
  • 2篇郑新和
  • 2篇王海啸
  • 2篇杨辉
  • 1篇王建峰

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇中国科学:物...

年份

  • 2篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
1eV带隙GaNAs/InGaAs短周期超晶格太阳能电池的设计被引量:2
2013年
使用In,N分离的GaNAs/InGaAs短周期超晶格作为有源区是未来实现高效率GaInNAs基太阳能电池的重要结构之一.同时,考虑到具有1eV带隙的GaInNAs子电池的重要性以及与Ge衬底晶格匹配的优势,基于Ge衬底上的四结及多结太阳能电池无疑荣景可期.为在实验上较好地控制所需带隙,我们利用传输矩阵方法从理论上计算了实现1eV带隙下超晶格的周期数、垒层厚度以及In,N的浓度,并进一步讨论分析1eV带隙下的多个相关参数的对应关系以及超晶格的应变状态.
王海啸郑新和文瑜吴渊渊甘兴源王乃明杨辉
关键词:太阳能电池
高质量InGaN的等离子体辅助分子束外延生长和In的反常并入行为被引量:5
2013年
采用射频等离子体辅助分子束外延技术生长得到了In组分精确可控且高质量的InxGa1xN(x0.2)外延薄膜.生长温度为580℃的In0.19Ga0.81N薄膜(10.2)面非对称衍射峰的半高宽只有587弧秒,背景电子浓度为3.96×1018/cm3.在富金属生长区域,Ga束流超过N的等效束流时,In组分不为零,即Ga并没有全部并入外延层;另外,稍微增加In束流会降低InGaN的晶体质量.
吴渊渊郑新和王海啸甘兴源文瑜王乃明王建峰杨辉
关键词:晶体质量
共1页<1>
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