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杨正川

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：沈阳仪表科学研究院有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 1篇钝化
  • 1篇工艺技术
  • 1篇SIO

机构

  • 1篇沈阳仪表科学...

作者

  • 1篇吴东阁
  • 1篇李绍恒
  • 1篇王晓雯
  • 1篇杨正川

传媒

  • 1篇仪表技术与传...

年份

  • 1篇2004
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
SiO钝化膜制备工艺技术被引量：1
2004年
介绍了利用真空蒸镀的方法制作SiO钝化膜的工艺技术,并对工艺中的关键工艺、出现的问题进行了分析,给出了解决方案。最后介绍了SiO作为钝化膜在低功耗磁阻传感器中的成功应用,包括SiO的蒸发工艺参数、光刻腐蚀工艺。低功耗磁阻传感器的敏感膜由Co、Ni薄膜组成,由于Co、Ni材料的特殊性(容易氧化),以致常用的高温钝化膜不能应用在这一领域。SiO钝化膜的成功研制使得低功耗磁阻传感器的灵敏度和可靠性有较大程度的提高,生产成本也进一步降低。
李绍恒王晓雯杨正川吴东阁
关键词：SIO钝化
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共1页<1>
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