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江四川

作品数:2 被引量:7H指数:1
供职机构:重庆大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇制备工艺参数
  • 2篇镁合金
  • 2篇耐腐蚀
  • 2篇溅射
  • 2篇合金
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇耐腐
  • 1篇耐腐蚀性
  • 1篇耐蚀
  • 1篇耐蚀性
  • 1篇腐蚀性
  • 1篇TIALN薄...
  • 1篇AZ31镁合...

机构

  • 2篇重庆大学

作者

  • 2篇黄佳木
  • 2篇江四川
  • 1篇杨辉
  • 1篇张兴元
  • 1篇陈韦
  • 1篇彭佳
  • 1篇张义豪

传媒

  • 1篇材料导报
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
制备工艺参数对镁合金表面沉积TiCN薄膜耐蚀性的影响被引量:6
2013年
采用射频磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积TiCN薄膜,研究了制备工艺参数对TiCN薄膜耐腐蚀性能的影响。结果表明,在Ti靶功率50W,C靶功率50W,N2流量20sccm,溅射时间4.5h条件下,镀TiCN薄膜的镁合金基体具有最佳的耐蚀性,其在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的腐蚀电流密度为1.664×10-6 A/cm2,比同等条件下纯镁合金基体的腐蚀电流密度(1.785×10-5 A/cm2)下降了1个数量级。
张兴元江四川杨辉张义豪黄佳木
关键词:磁控溅射镁合金耐腐蚀性
制备工艺参数对AZ31镁合金表面溅射TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响被引量:1
2014年
采用射频反应磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了TiAlN薄膜。用场发射扫描电镜、电化学工作站研究分析了薄膜的表面形貌以及电化学性能,研究了铝靶溅射功率、钛靶溅射功率、氮气流量、沉积时间对TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响。结果表明实验所制备的TiAlN薄膜表面光滑、致密。当Al靶功率为50 W,Ti靶功率为125 W,N2流量为30 mL/min(标准状态),沉积时间为8 h时薄膜耐腐蚀性能最佳。薄膜腐蚀电流密度(4.321×10-7 A/cm2)比镁合金基体(1.066×10-5 A/cm2)降低了1个数量级以上,镁合金耐腐蚀性能得到较大提高。
黄佳木陈韦彭佳江四川
关键词:TIALN薄膜磁控溅射镁合金
共1页<1>
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