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章军云

作品数：12 被引量：33H指数：3
供职机构：南京电子器件研究所更多>>
相关领域：电子电信化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 12篇中文期刊文章

领域

  • 10篇电子电信
  • 2篇化学工程

主题

  • 6篇GAAS
  • 5篇单片
  • 4篇光刻
  • 3篇电子迁移率
  • 3篇迁移率
  • 3篇晶体管
  • 3篇光刻机
  • 3篇高电子迁移率
  • 3篇高电子迁移率...
  • 3篇PHEMT
  • 2篇电镀
  • 2篇电镀镍
  • 2篇镀镍
  • 2篇砷化镓
  • 2篇赝配高电子迁...
  • 2篇二极管
  • 2篇放大器
  • 2篇PIN二极管
  • 1篇单片功率放大...
  • 1篇单片集成

机构

  • 12篇南京电子器件...

作者

  • 12篇章军云
  • 4篇黄念宁
  • 4篇陈堂胜
  • 4篇林罡
  • 2篇任春江
  • 2篇彭龙新
  • 2篇高建峰
  • 1篇王维波
  • 1篇朱赤
  • 1篇尹志军
  • 1篇徐波
  • 1篇韩克锋
  • 1篇李信
  • 1篇吴少兵
  • 1篇郭啸

传媒

  • 5篇固体电子学研...
  • 5篇电子与封装
  • 1篇电镀与精饰
  • 1篇电镀与涂饰

年份

  • 1篇2023
  • 3篇2022
  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2014
  • 1篇2009
共 12 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
W波段GaN单片功率放大器研制被引量：11
2016年
报道了W波段GaN三级放大电路的研制结果。采用电子束直写工艺在AlGaN/GaN HEMT外延结构上制备了栅长100nm的'T'型栅结构。器件直流测试最大电流密度为1.3A/mm,最大跨导为430mS/mm;小信号测试外推其fT和fmax分别为90GHz及210GHz。采用该器件设计了三级放大电路,在75~110GHz频段内最大小信号增益为21dB。该单片在90GHz处的最大输出功率可达1.117W,PAE为13%,功率增益为11dB,输出功率密度为2.33 W/mm。
吴少兵高建峰王维波章军云
关键词：GAN高电子迁移率晶体管W波段电子束直写功率放大器
AlGaAs/GaAs PIN超宽带微波毫米波单刀三掷开关
2022年
研制了基于异质结AlGaAs/GaAs PIN二极管的超宽带微波毫米波开关单片。通过异质结外延材料结构的设计和MOCVD生长技术、高台面PIN开关电路制备工艺技术、超宽带模型管S参数测试与电路设计,制作了一款0.05~50 GHz的超宽带PIN单刀三掷开关。测试结果表明:该微波毫米波开关在0.05~18 GHz频带内插入损耗为0.5~0.75 dB,隔离度大于41 dB;18~50 GHz频带内插入损耗为0.75~1.2 dB,隔离度大于27 dB;具有低插入损耗和高隔离度的开关切换特性。
章军云齐志央凌志健尹志军王溯源李信王学鹏陈堂胜
关键词：铝镓砷砷化镓PIN二极管毫米波
用248nm光刻机制作150nm GaAs PHEMT器件性能及可靠性评估
2016年
介绍了基于光刻机的150 nm T型栅Ga As PHEMT工艺,其中重点介绍了使用的shrink关键工艺步骤。利用新工艺在某100 mm Ga As工艺线上进行流片,并通过直流测试、loadpull测试、微波小信号测试以及环境试验、极限电压测试、高温步进试验,获得新工艺下制作的Ga As PHEMT的各项性能指标及可靠性。最后制作得到的器件在性能和通过直接光刻得到的PHEMT在性能和可靠性上基本在一个水平上,但是想要通过shrink工艺得到线宽更细的栅长需要进一步努力。
郭啸章军云林罡
关键词：砷化镓赝配高电子迁移率晶体管可靠性T型栅
电流密度对碳化硅电镀镍的影响
2022年
以SiC片为基体,分别在直流(DC)电源和脉冲(PC)电源下电镀Ni。研究了电流密度对Ni镀层表面形貌、粗糙度、显微硬度以及SiC和Ni镀层刻蚀选择性的影响。结果表明,随直流电流密度增大,Ni镀层的表面形貌先变好后变差,表面粗糙度先减小后增大,显微硬度和SiC/Ni刻蚀选择比逐渐减小。随脉冲电流密度增大,Ni镀层的表面形貌和粗糙度的变化趋势与直流电镀时相近,但显微硬度和SiC/Ni刻蚀选择比均逐渐增大。当电流密度较大时,在相同电流密度下脉冲电镀Ni层的各项性能均优于直流电镀Ni层。在1.4 A/dm^(2)的平均电流密度下脉冲电镀可获得综合性能较优的Ni镀层。
李彭瑞任春江章军云陈堂胜
关键词：碳化硅电镀镍电流密度刻蚀选择性
单片集成GaAs增强/耗尽型赝配高电子迁移率晶体管被引量：2
2009年
介绍了单片集成GaAs增强/耗尽型赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺。借助栅金属的热处理过程,形成了热稳定性良好的Pt/Ti/Pt/Au栅。AFM照片结果表明Pt金属膜表面非常平整,2nm厚度膜的粗糙度RMS仅为0.172nm。通过实验,我们还得出第一层Pt金属膜的厚度和退火后的下沉深度比大概为1∶2。制作的增强型/耗尽型PHEMT的阈值电压(定义于1mA/mm)、最大跨导、最大饱和漏电流密度、电流增益截止频率分别是+0.185/-1.22V、381.2/317.5mS/mm、275/480mA/mm、38/34GHz。增强型器件在4英寸圆片上的阈值电压标准差为19mV。
章军云林罡陈堂胜
关键词：单片集成增强型阈值电压
光刻机镜头漏光对光刻工艺的影响被引量：1
2023年
通过GaAs单片微波集成电路(MMIC)光刻工艺,试验得到不同掩模版透光区占空比下光刻机镜头的漏光率,分析了漏光率对曝光能量宽裕度以及光刻胶形状的影响。通过试验测量得出,掩模版透光区占空比的增加会导致曝光镜头的漏光率升高,进一步使得光刻工艺的能量宽裕度变小。同时,过高的漏光率会造成显影后图形的光刻胶损失,使光刻胶图形的对比度变差,从而严重影响GaAs MMIC光刻工艺的图形质量,造成器件性能退化,降低产品良率。
梁宗文石浩王雯洁王溯源章军云
关键词：掩模版
硫化铵表面处理对GaAs HEMT/PHEMT器件性能的改善
2014年
利用硫化铵溶液对GaAs HEMT/PHEMT器件进行表面硫化处理,并利用硫酸锌溶液进行固化;相对于传统的氨水表面处理,经过此处理的器件获得了更高的直流脉冲比,并保持相当高的击穿电压。分析表明,这样的改善来源于表面硫化处理对砷化镓表面态能级的抬高。
韩克锋黄念宁章军云刘世郑高建峰
关键词：表面态击穿电压脉冲比
光刻胶流淌实现深亚微米栅工艺被引量：3
2018年
基于0.15μm分辨率扫描式光刻机实现0.1μm栅光刻的光刻胶流淌工艺。通过合理选择光刻胶烘烤温度、烘烤时间和圆片表面处理工艺,实现线宽均匀性好、工艺窗口满足要求的0.1μm线条。实验结果表明,圆片表面状态对光刻胶流淌工艺有重要影响。采用热流淌工艺形成的胶剖面在HEMT器件双层胶工艺中有重要应用,可实现极限分辨率的突破及栅剖面形貌的优化,有利于提升器件成品率和可靠性。
朱赤王溯源章军云林罡黄念宁
关键词：分辨率特征尺寸
基于248 nm扫描光刻机工艺的0.15μm GaAs单片限幅低噪声放大器被引量：3
2019年
报道了一种0.15μm GaAs单片限幅低噪声放大器的材料设计和制作工艺,器件关键层制备使用248 nm扫描光刻机和烘胶工艺方案。利用X波段限幅低噪声放大电路对该工艺进行了流片验证。微波测试结果显示,在7~13 GHz频段内,电路增益大于19.5 dB,在7.7 GHz处增益达22.3 dB;噪声系数小于1.98 dB,在7.2 GHz处,最小噪声为1.28 dB;直流功耗为190 mW,展示了良好的器件和电路性能。
王溯源章军云彭龙新黄念宁
关键词：X波段GAAS
电镀参数对电镀镍层性能的影响被引量：7
2022年
采用脉冲电流方法制备电镀镍层,并利用扫描电镜、光学轮廓仪、硬度计等测试方法研究了电镀参数中的溶液温度和pH对电镀镍层的表面形貌、粗糙度、显微硬度和SiC/Ni刻蚀选择比的影响。结果表明:当镀液温度在45~60℃时,镀镍层表面形貌变化不大,但是随着镀液温度的升高和镀液pH的增大,粗糙度呈先减小后增大的趋势,显微硬度和SiC/Ni刻蚀选择比均呈先增大后减小的趋势。电镀液温度为55℃,pH在4.0~4.4时,可获得具有良好的质量、显微硬度且SiC/Ni刻蚀选择比的镍镀层。
李彭瑞任春江章军云陈堂胜
关键词：电镀镍显微硬度工艺参数
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