苏平
- 作品数：8 被引量：32H指数：3
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 无掩模激光干涉光刻技术研究被引量：7
- 2002年
- 介绍了一种不用掩模的光刻技术———激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步实验结果进行了分析。研究表明,激光干涉光刻具有大视场和分辨率高和视场宽等优点。
- 冯伯儒张锦宗德蓉蒋世磊苏平陈宝钦陈芬
- 关键词：微光刻技术干涉光刻场发射显示器
- 相移掩模和光学邻近效应校正光刻技术被引量：25
- 2001年
- 详细地论述了相移掩模提高光刻分辨力和改善焦深的原理。介绍了光学邻近效应校正方法。
- 冯伯儒张锦侯德胜周崇喜苏平
- 关键词：相移掩模光学邻近效应校正光刻技术
- 亚分辨图形相移掩模的制作方法
- 2001年
- 介绍亚分辨图形掩模的原理、应用及具有亚分辨图形的相移掩模和传统掩模的制作方法和工艺。
- 冯伯儒张锦陈宝钦侯德胜苏平
- 提高光刻图形质量的双曝光技术被引量：3
- 2001年
- 双曝光技术能提高图形对比度和分辨率 ,可改善焦深 ,从而提高光刻图形质量。介绍了双曝光技术原理和几种双曝光方法 ,同时 ,提出采用双曝光技术 ,结合相移掩模和光学邻近效应校正来提高光刻分辨率 ,给出了双曝光光刻方法的实例及计算机模拟结果。
- 苏平冯伯儒张锦
- 关键词：光学光刻
- 提高光刻图形质量的双曝光技术研究
- 该文在分析投影成像系统的部分相干成像理论的基础上,分析了相移掩模技术、光学邻近效应校正技术和双曝光技术提高光刻分辨率和扩展焦深的原理,得到双曝光技术对像质改进的物理本质.提出了分离掩模不同特征尺寸图形的双曝光的方法,并利...
- 苏平
- 关键词：相移掩模分辨率光刻技术
- 文献传递
- 一种干涉光刻多光束形成系统
- 一种干涉光刻多光束形成系统,属于对微细图形干涉光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光经扩束、空间滤波和准直之后照射到一个梯形棱镜上,经该棱镜折射形成五束在一定距离处相迭加的平行光,这些光束由区域性选择开启的快门控制,在涂...
- 冯伯儒张锦蒋世磊宗德蓉苏平
- 文献传递
- 一种激光干涉光刻系统
- 一种激光干涉光刻系统,属于对微细图形光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光通过扩束准直和针孔空间滤波器后,由分光镜和反射镜装置分成三束平行光,然后相交叠加产生干涉;可通过快门挡住其中的一束,并通过转动机构使感光材料基片任...
- 张锦冯伯儒蒋世磊候德胜宗德蓉苏平
- 文献传递
- 无掩模激光干涉光刻研究
- 冯伯儒张锦蒋世磊宗德蓉苏平刘娟
- “无掩模激光干涉光刻研究”是微细加工技术和微电子领域的国际前沿研究课题，项目组对其进行了广泛深入的理论、模拟和实验研究，对发展中国微电子器件和光电子器件以及新型大屏幕平板显示器和新型光刻技术，推进光刻技术发展具有重要的科...
- 关键词：
- 关键词：无掩模光刻激光干涉光刻技术模拟软件
