方容川
- 作品数：77 被引量：217H指数：8
- 供职机构：中国科学技术大学物理学院物理系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划安徽省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术化学工程更多>>
- 脉冲激光制备类金刚石薄膜及原位激光等离子体发射光谱被引量：1
- 2000年
- 用 YAG脉冲激光轰击真空室内的石墨靶 ,可以形成包含碳素的激光等离子体 ,并在硅或石英衬底上淀积形成某种类型的碳膜。用光学多道分析仪原位测量了激光等离子体的发射光谱 ,给出反应空间可能存在的反应基团有碳原子、碳离子、碳分子等 ,用拉曼光谱研究了薄膜的结构 ,证明所形成的薄膜为类金刚石膜 ,并得出碳原子和碳离子与薄膜的类金刚石结构有关。制备过程中 ,氢的参与有利于薄膜中金刚石成分的形成。空间分辨的原位激光等离子体发射光谱表明 。
- 马玉蓉郭骅方容川
- 关键词：激光等离子体类金刚石薄膜
- 金刚石膜内晶粒尺寸和取向对其热导率的影响
- 1997年
- 研究了金刚石膜内晶粒尺寸和取向程度对金刚石膜然导率的影响。通过对衬底表面进行不同研磨时间的处理和适当的工艺条件，采用灯丝热解化学气相沉积（HFCVD）的方法在单晶硅衬底上形成了具有不同晶粒尺寸和不同程度（100）晶面取向的金刚石膜，并研究了其热导率。结果表明，由大晶粒和较高程度（100）晶面取向的晶粒构成的金刚石膜具有高的热导率特性。
- 顾长志金曾孙吕宪义邹广田张纪法方容川
- 关键词：金刚石薄膜热导率晶粒尺寸超硬材料
- 衬底表面覆盖对薄膜成核和生长的影响被引量：3
- 1999年
- 在薄膜生长的成核阶段，稳定聚集体将逐渐覆盖衬底表面．同时，薄膜的生长将发生在被覆盖的衬底部分，而成核则发生在未被覆盖的部分．本文研究了衬底表面被覆盖的程度对薄膜成核和生长的影响，对广泛应用的薄膜理论，给出一些修正公式．结果表明，成核速率正比于衬底表面未被覆盖面积的平方．而薄膜理论认为成核速率是时间常量，似显得粗糙．
- 邵庆益方容川廖源韩祀瑾
- 关键词：薄膜生长成核
- 一种激光打孔装置及其二步打孔方法
- 本发明涉及激光应用装置及激光加工技术。其装置包括一台长脉冲的长波长激光器和一台短脉冲的短波长激光器，两束相互垂直的激光交汇处设有一个与两束光轴线均成45°的透射/反射平面镜。在该镜输出光路上设有能沿光路方向移动位置的聚焦...
- 常超马玉蓉方容川吴气虹陈向力
- 文献传递
- 高频溅射法氮碳膜的生长及结构被引量：1
- 1997年
- 本文用扫描电镜、红外吸收光谱、X射线光电子能谱和X射线衍射技术对高频溅射沉积法制备的氮化碳膜的生长过程进行了研究．改变溅射条件，研究了氮化碳膜的形貌和结构与其性质之间的关系，通过溅射条件的优化，可使氮化碳膜中的氮含量增加，薄膜的结构接近β-C3N4相．
- 余庆选方容川
- 关键词：氮化碳薄膜薄膜生长
- 光电倍增管的噪声分析和建模被引量：30
- 2003年
- 着重讨论光电倍增管的噪声来源、不同噪声源的噪声特征。为了便于实际应用,借助于光电子学和电子学分析方法,建立光电倍增管的噪声模型。这有利于应用光电倍增管探测更加微弱的信号,也有利于从微弱信号中提取研究对象的真实信息。
- 郭从良孙金军方容川曾丹葛仕明
- 关键词：光电倍增管噪声光电子学光敏元件
- 硼掺杂对金刚石薄膜生长特性的影响被引量：4
- 2005年
- 采用HFCVD方法制备了掺硼金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和X射线衍射光谱对样品的表面形貌及结构进行了分析.结果表明,随着硼含量的增加,薄膜中晶粒的取向由(100)变为(111),然后趋向于无序化.硼的掺入同样影响到孪晶晶粒的形态及生长因子α,使得α变小.通过对样品的Raman光谱分析,得出在适当的硼掺杂浓度下,孪晶的出现使金刚石薄膜中的应力得到松弛,从而中心声子线Raman位移红移较小.
- 刘卫平余庆选田宇全廖源王冠中方容川
- 关键词：孪晶HFCVD硼掺杂金刚石薄膜
- 激光喇曼光谱在非晶金刚石薄膜中的应用
- 我们用激光喇曼光谱手段对非晶金刚石薄膜的结构作了测试,脉冲激光轰击石墨靶,产生离子(团),在电场作用下沉积到Si的<111>表面,形成薄膜,制备过程中,实验条件对所成膜的结构有极大影响,我们观察了喇曼散射光谱在～1600...
- 郭骅马玉蓉方容川许存义左健
- 文献传递
- 灯丝温度对原位吸收光谱和金刚石薄膜生长的影响被引量：5
- 1996年
- 报道了原位红外吸收光谱在气相合成金刚石薄膜生长过程中的应用，研究了灯丝温度对原位红外吸收光谱和金刚石薄膜生长的影响。较高的灯丝温度使甲烷分解更充分，从而产生更多诸如Ｃ２Ｈ２等可能对金刚石薄膜生长有利的基团，导致金刚石薄膜质量和生长速率的提高。
- 崔景彪马玉蓉方容川
- 关键词：吸收光谱金刚石
- 可制备平整的薄膜材料的脉冲激光沉积方法及其装置
- 本发明涉及采用激光的方法和装置来制备薄膜材料,尤其是涉及脉冲激光沉积的方法和装置。它是在传统制备方法和装置的基础上,在靶和衬底之间增设了颗粒选择阻挡件,用脉冲激光轰击靶材料使之小颗粒沉积在衬底上;亦即在本发明的制备装置结...
- 沈维康马玉蓉方容川王冠中韩新海
- 文献传递
