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石建民

作品数：8 被引量：0H指数：0
供职机构：北京控制工程研究所更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 8篇中文专利

领域

  • 4篇自动化与计算...
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇码盘
  • 3篇光学零件
  • 2篇调整装置
  • 2篇掩膜
  • 2篇掩膜版
  • 2篇上光
  • 2篇探测器
  • 2篇同轴度
  • 2篇曝光机
  • 2篇坐标轴
  • 2篇无定位
  • 2篇狭缝
  • 2篇母线
  • 2篇目镜
  • 2篇接触力
  • 2篇共面
  • 2篇光电
  • 2篇光电探测
  • 2篇光电探测器
  • 2篇光电转换

机构

  • 8篇北京控制工程...

作者

  • 8篇石建民
  • 7篇赵娜
  • 6篇范汉超
  • 6篇赵晓雨
  • 4篇刘江
  • 4篇高修涛
  • 4篇秦素然
  • 4篇吕志强
  • 4篇朱春英
  • 3篇王婧烨
  • 2篇刘旭力
  • 2篇邵逸恺
  • 2篇杨宇
  • 2篇戈强
  • 2篇左建斌
  • 2篇孟宪刚
  • 2篇田广
  • 1篇王周好
  • 1篇王俊杰

年份

  • 1篇2022
  • 2篇2020
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2015
  • 1篇2013
  • 1篇2011
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
一种制备低反射率金属薄膜的方法
本发明涉及一种制备低反射率金属薄膜的方法，特别涉及一种在光学玻璃表面制备低反射率薄膜的方法，适用于航天器用光学零件如码盘、光栅等所采用的低反射率薄膜的制备，属于薄膜制备技术领域。本发明的方法制备的金属薄膜的反射率低≤10...
刘江秦素然高修涛石建民范汉超王婧烨赵娜
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一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质
一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝...
左建斌武宏宇吕志强赵晓雨朱春英佟慧赵娜石建民范汉超杨思达
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一种针对无定位标记的玻璃基片光刻对准装置及对准方法
本发明涉及一种针对无定位标记的玻璃基片的光刻对准装置及对准方法。针对基片的形状设计专用的定位工装和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通过第一掩膜版在定位工装光刻标记；通过该标记实现第二掩膜版的定位，通过第二掩膜版的狭缝在玻璃...
赵娜朱春英曾宪沪秦素然刘江赵晓雨石建民
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基于非共面标记线的柱面镜与码盘玻璃粘接装置及方法
本发明涉及一种基于非共面标记线的柱面镜与码盘玻璃粘接装置和方法，属于光电探测器技术领域。该装置以底座上表面为测量系统坐标系的XOY平面，垂直于XOY平面的坐标轴为测量坐标系的Z轴，二维移动平台位于底座上表面能够沿测量系统...
王婧烨吕志强赵晓雨刘旭力汪艳戈强杨宇孟宪刚杨立洲高修涛邵逸恺田广武宏宇赵娜石建民范汉超
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空间用光学石英玻璃耐辐照滤紫外薄膜及制备方法
空间用光学石英玻璃耐辐照滤紫外薄膜及制备方法，包括石英玻璃基片和多层膜，多层膜通过真空热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法镀在石英玻璃基片上，所述的多层膜为L<Sub>1</Sub>层/H层/L<Sub>2</Sub>层结构，L...
刘江秦素然高修涛王周好王俊杰石建民范汉超
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一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质
一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝...
左建斌武宏宇吕志强赵晓雨朱春英佟慧赵娜石建民范汉超杨思达
一种针对无定位标记的玻璃基片光刻对准装置及对准方法
本发明涉及一种针对无定位标记的玻璃基片的光刻对准装置及对准方法。针对基片的形状设计专用的定位工装和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通过第一掩膜版在定位工装光刻标记；通过该标记实现第二掩膜版的定位，通过第二掩膜版的狭缝在玻璃...
赵娜朱春英曾宪沪秦素然刘江赵晓雨石建民
基于非共面标记线的柱面镜与码盘玻璃粘接装置及方法
本发明涉及一种基于非共面标记线的柱面镜与码盘玻璃粘接装置和方法，属于光电探测器技术领域。该装置以底座上表面为测量系统坐标系的XOY平面，垂直于XOY平面的坐标轴为测量坐标系的Z轴，二维移动平台位于底座上表面能够沿测量系统...
王婧烨吕志强赵晓雨刘旭力汪艳戈强杨宇孟宪刚杨立洲高修涛邵逸恺田广武宏宇赵娜石建民范汉超
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