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朱春英

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：北京控制工程研究所更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇调整装置
  • 2篇掩膜
  • 2篇掩膜版
  • 2篇上光
  • 2篇同轴度
  • 2篇曝光机
  • 2篇无定位
  • 2篇狭缝
  • 2篇母线
  • 2篇接触力
  • 2篇光刻
  • 2篇光学零件
  • 2篇存储介质

机构

  • 4篇北京控制工程...

作者

  • 4篇石建民
  • 4篇赵娜
  • 4篇赵晓雨
  • 4篇朱春英
  • 2篇刘江
  • 2篇范汉超
  • 2篇左建斌
  • 2篇秦素然
  • 2篇吕志强

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2015
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质
一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝...
左建斌武宏宇吕志强赵晓雨朱春英佟慧赵娜石建民范汉超杨思达
文献传递
一种针对无定位标记的玻璃基片光刻对准装置及对准方法
本发明涉及一种针对无定位标记的玻璃基片的光刻对准装置及对准方法。针对基片的形状设计专用的定位工装和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通过第一掩膜版在定位工装光刻标记；通过该标记实现第二掩膜版的定位，通过第二掩膜版的狭缝在玻璃...
赵娜朱春英曾宪沪秦素然刘江赵晓雨石建民
文献传递
一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质
一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝...
左建斌武宏宇吕志强赵晓雨朱春英佟慧赵娜石建民范汉超杨思达
一种针对无定位标记的玻璃基片光刻对准装置及对准方法
本发明涉及一种针对无定位标记的玻璃基片的光刻对准装置及对准方法。针对基片的形状设计专用的定位工装和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通过第一掩膜版在定位工装光刻标记；通过该标记实现第二掩膜版的定位，通过第二掩膜版的狭缝在玻璃...
赵娜朱春英曾宪沪秦素然刘江赵晓雨石建民
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