您的位置: 专家智库 > >

耿臻

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:浙江大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇电路
  • 1篇多边形
  • 1篇切分
  • 1篇鲁棒
  • 1篇鲁棒性
  • 1篇纳米级集成电...
  • 1篇集成电路
  • 1篇光刻仿真
  • 1篇光刻系统
  • 1篇光学邻近效应
  • 1篇分辨率
  • 1篇分辨率增强
  • 1篇感器
  • 1篇传感
  • 1篇传感器

机构

  • 2篇浙江大学

作者

  • 2篇耿臻
  • 1篇史峥
  • 1篇罗凯升
  • 1篇吕楠

传媒

  • 1篇传感器与微系...

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
用于光刻系统仿真的多边形处理算法
2014年
为提高光刻仿真效率,通过对光刻原理进行研究,提出了2种多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,设计的具体光学参数为:光源波长为193nm,数值孔径为0.3~0.8,部分相干系数可调范围为0.2~0.8,可一次性仿真1μm×1μm到10μm×10μm范围内的45 nm^0.18μm工艺的复杂版图,并通过多次实验进行验证。实验结果表明:原版图图像的边缘细节得到保留,且该算法有效地减少了光刻模拟的计算复杂度与计算时间,整体效率提升20%以上,为当前智能传感器系统芯片的制造节省了宝贵时间。
吕楠史峥罗凯升耿臻
关键词:传感器光刻仿真光学邻近效应
纳米级集成电路计算光刻技术研究
随着芯片的集成度越来越高,特征尺寸越来越小,集成电路已经进入纳米级时代。这必将对集成电路的制造技术提出更高的要求。由于光源技术发展的滞后,193纳米波长光刻仍然是纳米级集成电路制造的主要选择。当集成电路发展到90纳米及以...
耿臻
关键词:纳米级集成电路分辨率增强鲁棒性
文献传递
共1页<1>
聚类工具0