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曹俊

作品数:6 被引量:9H指数:2
供职机构:江西理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学机械工程化学工程更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 2篇化学工程
  • 2篇机械工程

主题

  • 4篇发光
  • 4篇
  • 3篇溅射
  • 3篇EU
  • 2篇稀土
  • 2篇稀土掺杂
  • 2篇WO
  • 2篇CA
  • 2篇掺杂
  • 1篇射频溅射
  • 1篇陶瓷靶材
  • 1篇微结构
  • 1篇相变
  • 1篇铝酸锶
  • 1篇发光薄膜
  • 1篇发光性
  • 1篇发光性能
  • 1篇靶材
  • 1篇薄膜微结构
  • 1篇DY3+

机构

  • 6篇江西理工大学
  • 1篇景德镇陶瓷学...

作者

  • 6篇曹俊
  • 5篇陈连平
  • 4篇陈贻斌
  • 1篇李翠云

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇稀有金属
  • 1篇中国钨业
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇有色金属材料...

年份

  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 2篇2014
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
制备工艺对掺铕的钨酸钙薄膜发光性能的影响被引量:2
2014年
采用射频溅射法在硅片上沉积了Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜,利用正交试验研究了溅射时间、气压和功率对Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜的红光(615 nm)发光强度的影响。荧光分析表明,溅射法沉积的Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜需在700~800℃热处理后才能强烈地表现出Eu3+离子的特征发光行为;正交试验说明,溅射气压、时间和功率对薄膜的发光强度都有重要影响,溅射气压的影响尤为重要。研究还表明,为提高发光强度,溅射气压宜控制在1.0 Pa左右,溅射时间在160 min。
陈贻斌曹俊陈连平
关键词:溅射发光性能
溅射时间对CaWO_4:Eu薄膜微结构及发光性能的影响被引量:1
2015年
采用射频溅射法在硅片上沉积了Ca0.64WO_4:Eu0.24薄膜,并利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和荧光光谱研究了薄膜的结构、表面形貌及发光性能。XRD分析表明,在800℃退火处理的薄膜具有四方相结构;当溅射时间大于100 min时,薄膜高度地沿(004)晶面择优生长。SEM分析表明,薄膜的表面由许多光滑的多边形组成;由于过度长大,晶界处存在一些100 nm左右的针孔。荧光分析表明,在223 nm紫外光激发下,Ca0.64WO_4:Eu0.24薄膜在616 nm处发射出强烈的红光,并且,在592,655和703 nm处也观测到了明显的发光峰;研究还表明,发光强度与薄膜沿(004)晶面的择优生长因子之间存在正相关关系,当溅射时间在120 min以上或者薄膜的择优生长因子大于100时,薄膜都能发射出明亮的红光。为了获得最强的发光,镀膜时间宜控制在140 min左右。
陈连平陈贻斌曹俊
关键词:溅射发光
SrAl2O4:Eu2+,Dy3+陶瓷靶材的制备及其薄膜制备工艺的探索
稀土掺杂铝酸锶薄膜在无损实时可视化探测、机械应力传感器、纳米光电子器件、二维温度传感器以及薄膜太阳能电池等领域具有广阔的应用前景。高性能的陶瓷靶材是制备出高质量薄膜的首要条件。  本文采用传统陶瓷制备工艺制备了SrAl2...
曹俊
关键词:陶瓷靶材稀土掺杂
文献传递
Ca_(0.64)WO_4:Eu_(0.24)陶瓷的高温相变机理及其对发光性能的影响被引量:1
2014年
纯的CaWO4具有优异的耐压、耐热稳定性,化学组成为Ca0.64WO4:Eu0.24的陶瓷也具有CaWO4结构,但Ca2+晶格位置含有12 mol%的肖特基缺陷.这种缺陷浓度高的CaWO4相是否具有良好的高温稳定性还有待研究.本文探讨了过度烧结对Ca0.64WO4:Eu0.24陶瓷相结构的影响,揭示了在高温下产生相变的可能原因,并研究了该相变对材料发光性能的影响.研究表明,当烧结温度超过1100?C时,被肖特基缺陷束缚的部分氧离子会解离,造成Ca0.64WO4:Eu0.24陶瓷体相中氧元素含量严重不足,诱发CaWO4相发生相变,析出单斜晶系的Eu2WO6;研究还发现,CaWO4相的晶面间距在高温相变后会增大;这可能是导致Ca0.64WO4:Eu0.24陶瓷发光强度显著降低的一个重要原因.
陈连平陈贻斌曹俊
关键词:相变发光
稀土掺杂铝酸锶长余辉薄膜制备方法的研究现状被引量:4
2016年
稀土掺杂铝酸锶薄膜在长余辉夜视照明、无损实时可视化探测、机械应力传感器、纳米光电子器件、二维温度传感器以及薄膜太阳能电池等领域具有极为广阔、诱人的应用前景.要实现以上应用,首要条件是制备出质量高、性能优良的薄膜.因此制备稀土掺杂铝酸锶薄膜成为当今研究的热点.综述了国内外制备稀土掺杂铝酸锶薄膜的主要方法,包括射频磁控溅射法、溶胶—凝胶法、脉冲激光沉积法和激光熔蒸法,并重点介绍了射频磁控溅射法;另外对各种方法的优缺点进行了阐述.
曹俊陈连平李翠云
关键词:铝酸锶长余辉
Ca_(1-1.5x)WO_4:Eu_x发光薄膜的射频溅射制备技术研究被引量:1
2015年
以Ca0.64WO4:Eu0.24陶瓷为靶材,采用射频溅射法在硅片上沉积了Ca1-1.5xWO4:Eux薄膜,利用正交试验研究了溅射时间、气压和功率对Ca1-1.5xWO4:Eux薄膜的红光(616 nm)发光强度的影响;并利用荧光光谱仪和X射线光电子能谱(XPS)仪研究了薄膜的发光性能和成分。极差分析说明,溅射气压、时间和功率都会影响薄膜的发光强度,溅射时间的影响尤为重要。为提高发光强度,溅射气压宜控制在0.2 Pa左右,溅射时间在140 min。成分分析表明,薄膜中钙元素含量显著低于靶材中的含量,但铕元素含量显著偏高。研究还表明,靶材中Ca、W、O和Eu元素的溅射产额比为1∶1.79∶1.84∶2.28。XPS分析和光致发光谱都说明,薄膜中的Eu元素同时存在+3和+2价。
陈连平陈贻斌曹俊
关键词:溅射发光
共1页<1>
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