朱菁
- 作品数：65 被引量：82H指数：6
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国际科技合作与交流专项项目国家科技重大专项上海市科技人才计划项目更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 光刻机设备用离轴照明装置
- 一种光刻机设备用离轴照明装置，其特点在于该装置包括照明单元、衍射光学元件单元、变焦准直镜组、四分之一波片、负轴锥镜、45°旋光片和正轴锥镜；所述的照明单元由准分子激光器和扩束准直镜组组成。本发明对光刻机可实现双环照明，双...
- 杨宝喜宋强朱菁陈明胡中华肖艳芬刘蕾王俊张方黄惠杰
- 衍射型环形照明发生器及其制备方法
- 一种用于紫外光刻机离轴照明系统的衍射型环形照明发生器及其制备方法，特点在于其构成包括表面垂直于光轴的第一衍射元件和第二衍射元件，第一衍射元件将平行光束变换成与光轴成一个产生的发散光束与光轴成夹角θ的圆环形发散光束，第二衍...
- 朱菁杨宝喜曾爱军黄惠杰胡中华陈明肖艳芬
- 文献传递
- 用于准分子激光光束整形的衍射光学元件设计方法
- 一种用于准分子激光光束整形的衍射光学元件设计方法，该方法包括下列步骤：测量入射到衍射光学元件的光束的空间相干长度L；计算衍射光学元件中位相单元的尺寸l；依据入射到衍射光学元件的光束的空间相干长度L，确定衍射光学元件中一个...
- 朱菁王健黄惠杰张方杨宝喜陈明李璟魏张帆
- 文献传递
- 扫描干涉场曝光中关键技术的现状与发展趋势被引量：2
- 2015年
- 扫描干涉场曝光(SBIL)在制作大尺寸、纳米精度的衍射光栅中有着独特的优势。为了充分了解SBIL系统的技术特点,介绍了国内外SBIL技术的发展现状,并针对SBIL系统中的各个关键技术进行技术性的调研与总结,着重分析了各关键技术已有解决方法的基本原理、优点以及存在的局限性,结合具体的光栅应用要求,给出了各关键技术的相应具体指标,展望了其发展趋势。
- 程伟林朱菁张运波曾爱军黄惠杰
- 关键词：光栅衍射光栅大尺寸
- 基于单个空间光调制器的彩色微型投影装置
- 一种基于单个空间光调制器的彩色微型投影装置，其特点在于该装置包括沿着光束传播方向依次是同轴放置的照明单元、微孔滤波阵列、微透镜阵列扩束准直单元、空间光调制器、傅里叶变换透镜、微投影光学镜头，所述的照明单元由红、绿、蓝三色...
- 朱菁宋强杨宝喜黄惠杰
- 文献传递
- 用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计被引量：15
- 2013年
- 均匀照明是投影光刻机中实现光刻线条高度均一性的重要条件。采用微透镜阵列作为照明匀光器件,能够在实现矩形照明光斑的同时获得极高的远场分布均匀性。基于微透镜阵列现有的加工工艺,设计出二维方向分开的柱面微透镜阵列,并通过优化设计,克服了微透镜之间的接缝在远场光场处产生的中心亮线。仿真分析表明,所设计的微透镜阵列的远场分布不均匀性达到0.85%。
- 肖艳芬朱菁杨宝喜胡中华曾爱军黄惠杰
- 关键词：几何光学光学设计
- 193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用
- 一种193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用，该光栅式起偏器在熔石英薄片的表面上刻有一定图形的光栅，该光栅为亚波长周期、深刻蚀光栅，该光栅的线密度为5260~5400线/mm，深度为1.1~1.2μm，占空比为3...
- 朱菁杨宝喜曾爱军陈明黄惠杰
- 文献传递
- 光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法
- 一种光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法，该方法是沿光轴方向移动所述的聚光镜组的最后一块透镜，实现矩形照明光斑边缘位置和中心位置相对光强的调节。本发明无需添加额外的光学元件，仅依靠原光刻机曝光系统中已有光学元件的简单移动，...
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- 文献传递
- 基于混合梯度下降的高性能光刻机离轴照明衍射光学元件设计被引量：17
- 2015年
- 深紫外(DUV)光刻机照明系统普遍采用衍射光学元件(DOE)实现光瞳整形。根据光刻机的指标要求,衍射光学元件应具有高衍射效率和高均匀性的特点。传统的相位恢复算法如Gerchberg-Saxton(GS)及其改进算法,一般只能通过降低均匀性来提高衍射效率,无法得到最优的解。而全局优化算法如模拟退火法、遗传基因法等需要大量的计算时间,难以实现像素数目多的深紫外DOE的设计。为了克服上述困难,提出了一种基于GS的混合梯度下降算法,在迭代过程中对每次迭代的振幅进行加权反馈修正,在加快收敛速度的同时,减少误差,同时实现高效率和高信噪比。利用该算法对光刻需要的传统、四极照明光瞳、定制照明光瞳的DOE进行了设计,结果表明,实现传统和四极照明光瞳的16阶量化相位DOE的衍射效率均超过92%,而非均匀性分别为3.98%和2.3%。实现定制照明光瞳的DOE的衍射效率为91%,图形恢复误差为5.8%。该方法为获得高性能深紫外DOE提供一条可行的途径。
- 宋强朱菁王健张方吕向博杨宝喜黄惠杰
- 关键词：光学设计光学光刻部分相干光
- 均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法
- 一种用于紫外光刻机照明系统产生均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法，所述的微柱面镜阵列，包括母线方向分别沿Y和X方向的第一微柱面镜阵列和第二微柱面镜阵列，分别用于产生Y和X方向的均匀光强分布，所述的微柱面镜阵列的表面为凸柱...
- 朱菁陈明黄惠杰曾爱军胡中华杨宝喜肖艳芬
