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p沟VDMOS的设计及抗辐照特性研究被引量：1: 2011年; 借助半导体仿真工具Silvaco中所提供的工艺摸拟器(Athena)和器件摸拟器(Atlas),及L-Edit版图设计工具,设计了一款击穿电压高于-90 V、阈值电压为-4 V的p沟VDMOS器件。经实际流片测试,器件的导通电阻小于200 m!,跨导为5 S,栅-源泄漏电流和零栅电压时的漏-源泄漏电流均在纳安量级水平,二极管正向压降约为-1 V。采用2-D器件仿真方法以及相关物理模型对所设计的p沟VDMOS器件的单粒子烧毁(SEB)和单粒子栅击穿(SEGR)效应进行了分析和研究,并通过对所获得的器件样片采用钴-60"射线源进行辐照实验,研究了在一定剂量率、不同总剂量水平条件下辐照对所研制的p沟VDMOS器件相关电学参数的影响情况。; 郑君周伟松胡冬青刘道广何仕均许军; 关键词：单粒子烧毁辐照

基于应变硅技术的P沟VDMOS器件: 本发明公开了属于半导体器件结构范围的一种基于应变硅沟道的P沟VDMOS器件。是在VDMOS结构晶体管的结构基础上增加一层应变层，该应变层位于外延硅层与栅氧化层之间，在p型沟道区上表面生长的一层应变层，使形成的p型沟道区产...; 刘道广万欣严利人郑君; 文献传递

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郑君