刘丽琴
- 作品数：3 被引量：6H指数：1
- 供职机构：同济大学理学院精密光学工程技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术更多>>
- 磁控溅射方法制备碳膜稳定性的研究
- 内应力与附着性是影响C膜稳定性的重要因素。本文分析了磁控溅射方法制备C膜中内应力产生的主要原因，研究了应力大小与沉积时工艺条件--气压、靶距之间的关系，提出了控制C膜中内应力的方法，并通过添加Ti中间层增强了C膜的附着性...
- 刘丽琴王占山朱京涛张众王风丽徐迭张慧晶白亮徐垚
- 关键词：磁控溅射内应力附着性
- 文献传递
- 高反射率Mo/B_4C多层膜设计及制备被引量：6
- 2008年
- 运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜。通过在Mo/B4C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层,提高多层膜与基底的粘附力。另外,还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力,调整后多层膜结构周期为3.59 nm,Mo膜厚1.97 nm,B4C膜厚1.62 nm,峰值反射率26.34%。制备了膜对数为150的Mo/B4C膜并测量了其反射率,在波长7.03 nm处,Mo/B4C多层膜的近正入射反射率为21.0%。最后对测量结果进行了拟合,拟合得到Mo/B4C多层膜的周期为3.60 nm,Gamma值0.60,界面粗糙度为0.30 nm。
- 张慧晶张众朱京涛白亮陈锐黄秋实刘丽琴谭默言王风丽王占山陈玲燕
- 关键词：软X射线直流磁控溅射应力反射率
- 高反射率Mo/B4C多层膜研究
- Mo/B4C多层膜是6.7～8nm波段高反射率反射镜较好的材料组合，用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜，得到了相应的结构参数，采用直流磁控测射方法实现了Mo/B4C多层膜的制作。运用同步辐射光原完成了Mo/B4C多层...
- 张慧晶王占山陈玲燕张众朱京涛白亮陈锐黄秋实刘丽琴谭默言王风丽
- 关键词：多层膜遗传算法反射率
- 文献传递
