刘小平
- 作品数：14 被引量：28H指数：3
- 供职机构：湛江师范学院物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金广东省教育厅自然科学基金湛江市科技攻关计划项目更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术机械工程更多>>
- 物光的偏振性对全息记录质量的影响被引量：2
- 2007年
- 通过对菲涅耳三维漫反射全息记录光路中物光与参考光偏振状态的实验检测,发现线偏振的激光被不同表面材料的物体散射和漫反射后变成“部分偏振光”,几乎所有目标物都有显著的消偏振现象,全息干板上实际记录的是线偏振的参考光与“部分偏振”的物光形成的相干度较低的干涉条纹。物光偏振度的大幅度下降影响干涉条纹的衬比度,并增加全息图的噪声。给出实验方案和检测光路,采用在参考光路中插入1/4波片的方法,可充分利用非偏振物光各个振动方向的光能,提高条纹的衬比度。
- 刘小平李栋宇张志友张正贺邓焕林
- 关键词：全息图部分偏振光1/4波片
- 铁磁液体所受磁力的几种数学模型及应用
- 2003年
- 探讨了铁磁流体的性质,推导出了铁磁液体所受磁力的几种数学模型,最后研究了由于磁力的作用,铁磁流体表面内和表面外的压强值不同。
- 郭俊珍刘小平
- 关键词：磁力数学模型
- 用WDMI型光栅单色仪研究钠原子光谱
- 2007年
- 用WDMI型光栅单色仪直接观测钠原子光谱双线的波长,确定了主量子数n,轨道量子数l,推算出各谱线的归属,并从谱线的裂距经过理论推证,分别计算出精细结构常数α、普朗克常数h和自旋量子数s,这3个重要常数的实测值与公认的理论值比较有较高精度.
- 刘小平赖秀娟张正贺徐荣仔
- 非定域条纹与等厚条纹间关联的研究
- 1999年
- 研究了等厚干涉条纹与非定域条纹间的关联和区别,通过定量推算并经迈克尔逊干涉仪验证,得到薄膜干涉的等厚条纹被相同实验条件下的非定域条纹所兼容.
- 刘小平邵乐喜
- 关键词：牛顿环
- 宽带隙薄膜材料场电子发射研究的背景、现状和问题被引量：12
- 2000年
- 介绍了以金刚石为代表的宽带隙薄膜材料场电子发射研究背景和现状 ,对金刚石、类金刚石 (DLC)、立方氮化硼 (c-BN)、氮化铝 (AlN)和碳化硅 (SiC)薄膜场电子发射研究的进展进行了评述 ,着重介绍了发射性能与薄膜的结构特征、杂质含量和处理方法间的关系 ,并讨论了研究中存在的问题 .
- 陈光华邵乐喜贺德衍刘小平
- 关键词：场电子发射
- 热退火对射频反应溅射氮化铝薄膜场电子发射的影响被引量：4
- 2001年
- 以氮气为反应气体；用射频反应溅射方法制备了ＡＩＮ薄膜，结合ＸＰＳ和ＸＲＤ表征考察了热退火后处理对样品场电子发射性能的影响．实验表明，热退火是改善样品场发射稳定性的有效途径，样品经７００℃退火后，发射电流的涨落从未退火前的１３５μＡ下降到２０μＡ；并且发射的开启电压、发射电流的涨落和滞后等对退火温度表现出强烈的依赖性．文中认为，退火处理造成了薄膜结构的变化，引起表面电子亲和势特性以及电导特性的改变，进而影响了其发射特性．
- 邵乐喜刘小平谢二庆贺德衍陈光华
- 关键词：AIN薄膜场电子发射热退火氮化铝薄膜
- 高斯光束的特征参数在传输变换中的作用被引量：1
- 2002年
- 在聚焦、扩束、准直等需要改变光能量分布的场合 ,考证了高斯光束特征参数b、W0 在传输变换中对选择物距、透镜焦距及光学系统的指导作用 ,考证了虚像存在的条件 ,并分析了b、W0
- 刘小平
- 关键词：光束变换
- “技术”课程的师资培养探讨被引量：1
- 2007年
- 选取湛江师范学院机电技术、电子技术和计算机教育3个专业的在校师范生作为对象,对他们的"技术知识"和"技术素养"作了问卷调查.通过分析调查数据,针对新课程下中学"技术"课程的师资培养进行了探讨,进而对相关课程的分解与设置提出了初步的看法与建议.
- 邵乐喜刘小平李固强
- 关键词：信息技术课程设置
- 金刚石纳米粉促进的CVD金刚石薄膜的生长行为研究
- 2002年
- 采用由普通炸药爆轰制备的金刚石纳米粉对光滑硅衬底进行了涂覆预处理，研究了金刚石薄膜经徐覆和研磨预处理的两种衬底上的生长行为及其演化过程．结果表明，纳米粉处理能在显著提高成核密度的同时，大大缩短长成连续膜所用的时间；薄膜的生长由前后相继的两个阶段所构成，即确定晶面形成前球状颗粒的成长与融合和晶面的逐渐显露与晶粒长大过程．经足够长的生长时间后，所得薄膜具有结构致密、晶面清晰、晶形完整和表面平整度高的特征，特别适合于高致密性自支持薄膜的生长．而研磨处理衬底上生长的薄膜一旦成核，便有确定晶面的显露，但却出现明显的二次成核和孪晶，所得薄膜的致密性与表面平整度均不及徐覆处理的好．文中还对结果进行了简要讨论．
- 邵乐喜刘小平谢二庆贺德衍陈光华
- 关键词：CVD金刚石薄膜成核化学气相沉积
- 原位氮掺杂对CVD金刚石薄膜生长和结构的影响
- 以氮气为杂质源,采用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)技术进行了金刚石薄膜的原位掺杂,研究了氮掺杂对CVD金刚石薄膜的形貌结构和生长行为的影响.运用SEM、XRD和FTIR等手段对样品进行分析表征。实验结果表明,原...
- 邵乐喜刘小平屈菊兰谢二庆贺德衍陈光华
- 关键词：氮掺杂CVD金刚石薄膜形貌
- 文献传递
