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胡远荣

作品数:9 被引量:50H指数:4
供职机构:大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 8篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 6篇电致变色
  • 6篇溅射
  • 6篇磁控
  • 6篇磁控溅射
  • 4篇非晶
  • 4篇WO3薄膜
  • 3篇电弧离子镀
  • 3篇显微硬度
  • 3篇离子镀
  • 3篇WO
  • 3篇CRNX薄膜
  • 2篇氮分压
  • 2篇氧流量
  • 2篇溅射法
  • 2篇溅射法制备
  • 2篇光学
  • 2篇薄膜光学
  • 2篇WO3
  • 1篇电致变色薄膜
  • 1篇电致变色材料

机构

  • 9篇大连理工大学

作者

  • 9篇胡远荣
  • 8篇李国卿
  • 5篇王丽阁
  • 4篇谢为
  • 3篇钟彬
  • 3篇苟伟
  • 3篇刘振东

传媒

  • 2篇光学学报
  • 2篇真空科学与技...
  • 2篇全国薄膜技术...
  • 1篇材料热处理学...

年份

  • 2篇2007
  • 6篇2006
  • 1篇2005
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
氧流量和钛掺杂对WO3电致变色性能的影响
采用中频孪生磁控溅射技术制备非晶WO3薄膜。拉曼光谱、X射线衍射(XRD)、紫外分光光度计、计时安培分析仪等测试手段分析薄膜的结构、吸收光谱、透射光谱及响应时间。研究了氧流量和钛掺杂对薄膜电致变色性能的影响。结果表明:原...
胡远荣王丽阁李国卿谢为
关键词:WO3薄膜电致变色磁控溅射非晶
文献传递
中频孪生磁控溅射非晶WO3电致变色薄膜
采用中频孪生非平衡磁控溅射技术制备非晶、WO薄膜。X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外分光光度计等测试手段分析薄膜的结构、表面形貌、成分以及透射光谱特性。研究了氧分压及热处理温度对薄膜电致变色性能的影响。...
王丽阁胡远荣李国卿谢为
关键词:电致变色WO3薄膜磁控溅射非晶
文献传递
氮气含量对CrN_x薄膜相结构及摩擦磨损性能的影响被引量:25
2007年
采用电弧离子镀技术,在45钢基体上制备了不同氮气含量的CrNx薄膜。采用X射线衍射技术(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、努氏硬度计和UMT型球-盘摩擦试验机,分别测试了薄膜相结构、表面形貌、显微硬度和摩擦磨损性能。结果表明:CrNx薄膜主要由CrN和Cr2N相组成;随着N2含量的增加,薄膜中Cr2N(211)衍射峰强度逐渐减弱,CrN(220)衍射峰强度逐渐增强;薄膜表面颗粒逐渐减少,表面趋于平整,薄膜硬度出现两个峰值,对应于薄膜为单相Cr2N和CrN的相组成处;与钢基体相比,氮气含量为35%时,CrNx薄膜具有良好的表面质量、最佳的硬度、优良的耐磨损性能。
钟彬苟伟李国卿胡远荣
关键词:CRNX薄膜电弧离子镀表面形貌显微硬度
磁控溅射法制备钛掺杂WO_3薄膜结构和性能的研究被引量:10
2007年
采用中频孪生非平衡磁控溅射技术制备钛掺杂WO_3薄膜。运用X射线衍射(XRD),拉曼光谱、紫外分光光度计、计时安培分析仪和原子力显微镜(AFM)等测试手段分析了钛掺杂WO_3薄膜的结构和光学性能。实验结果表明,掺杂后的薄膜在相同的热处理条件下晶化程度降低,晶粒细化,离子抽出和注入的通道大大增多,钛掺杂原子数分数0.051的着色响应速度提高,循环寿命提高了4倍以上,但着色后透射率下降。
胡远荣王丽阁李国卿刘振东
关键词:薄膜光学电致变色磁控溅射
氮分压对电弧离子镀CrNx薄膜结构与性能的影响
采用电弧离子镀技术,在不同N2分压下沉积Cr/CrNx薄膜。X射线衍射技术、努氏硬度计和UMT型球-盘摩擦试验机、M342-2型腐蚀测量系统分别测试了薄膜相结构、显微硬度、摩擦磨损和抗腐蚀性能。研究了N2分压对薄膜相组成...
钟彬苟伟李国卿胡远荣刘振东
关键词:电弧离子镀显微硬度
文献传递
磁控溅射法制备WO<,3>电致变色薄膜和钛掺杂改性研究
WO3薄膜因具有着色效率高、可逆性好、响应时间短、寿命长、着色和褪色时的光学变化范围较宽等优点,被认为是最有发展前景的电致变色材料之一。 采用中频孪生非平衡磁控溅射制备WO3薄膜,室温沉积的薄膜为非晶态。运用X...
胡远荣
关键词:电致变色材料磁控溅射法
文献传递
中频孪生磁控溅射WO_3薄膜及变色性能研究被引量:10
2006年
采用先进的中频孪生非平衡磁控溅射技术,以金属钨为靶材,制备非晶态WO3电致变色薄膜。用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外分光光度计等测试手段分析薄膜的结构、表面形貌、成分以及透射光谱特性。研究了氧气流量比及热处理温度对WO3薄膜变色性能的影响。结果表明,中频孪生非平衡磁控溅射技术是制备WO3变色薄膜的一种有效方法;室温条件下沉积获得的原始态薄膜为非晶态WO3;提高氧气流量比和适当热处理温度能有效改善薄膜的电致变色性能。实验中在较高氧气流量比,200℃热处理条件下制备的薄膜在380-780nm的可见光范围内着色态和褪色态平均透光率差值高达50%以上,表现出较好的电致变色性能。
王丽阁胡远荣李国卿谢为
关键词:薄膜光学电致变色WO3薄膜磁控溅射非晶
氮分压对电弧离子镀CrNx薄膜结构与性能的影响被引量:6
2006年
采用电弧离子镀技术,在不同n2分压下沉积Cr/CrNx薄膜.X射线衍射技术、努氏硬度计和UMT型球-盘摩擦试验机、M342-2型腐蚀测量系统分别测试了薄膜相结构、显微硬度、摩擦磨损和抗腐蚀性能.研究了N2分压对薄膜相组成、硬度、摩擦磨损和抗腐蚀性能的影响.结果表明:随着N2分压的升高,薄膜由Cr2N(211)相过渡到CrN(220)相;薄膜硬度出现两个极值,对应于单相Cr2N和CrN;与钢基体相比,N2分压为0.35 Pa时制备的CrNx薄膜具有良好的耐磨性能和抗腐蚀性能.
钟彬苟伟李国卿胡远荣刘振东
关键词:电弧离子镀显微硬度
氧流量和钛掺杂对WO3电致变色性能的影响
2006年
采用中频孪生磁控溅射技术制备非晶WO3薄膜.拉曼光谱、X射线衍射(XRD)、紫外分光光度计、计时安培分析仪等测试手段分析薄膜的结构、吸收光谱、透射光谱及响应时间.研究了氧流量和钛掺杂对薄膜电致变色性能的影响.结果表明:原始非晶态WO3薄膜在较高O2流量比份(> 95%)条件沉积时,表现出更好的变色性能,对于500 nm~800 nm可见光范围,薄膜的透光率差值大于60%.钛掺杂后吸收光谱向短波方向移动,且掺杂5%后,近紫外线区域吸收率明显提高.掺杂5%,10%后响应速度提高了1倍,但着色效率降低.
胡远荣王丽阁李国卿谢为
关键词:WO3薄膜电致变色磁控溅射非晶
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