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卢宝文

作品数:5 被引量:11H指数:1
供职机构:中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇沉积速率
  • 3篇光学
  • 2篇挡板
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜材料
  • 2篇镀膜机
  • 2篇圆板
  • 2篇真空镀膜
  • 2篇真空镀膜机
  • 2篇扇区
  • 1篇银膜
  • 1篇酸洗
  • 1篇酸洗工艺
  • 1篇热蒸发
  • 1篇光学薄膜
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性质
  • 1篇薄膜光学

机构

  • 5篇中国科学院上...
  • 2篇中国科学院研...

作者

  • 5篇卢宝文
  • 4篇范正修
  • 4篇徐学科
  • 1篇胡国行
  • 1篇余祥
  • 1篇刘晓凤
  • 1篇刘光辉

传媒

  • 2篇光学学报

年份

  • 2篇2010
  • 3篇2009
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
不同沉积速率下热蒸发银膜的光学性能和结构分析被引量:10
2010年
实验分别采用5种不同的沉积速率(0.44,0.30,0.18,0.08和0.04nm/s)制备了金属银薄膜,膜系结构为基底/Al2O3/Ag/Al2O3/Air。光谱测试结果表明,沉积速率0.18nm/s的样品具有最高的平均反射率。采用X射线衍射(XRD)仪分析了5个样品的X射线衍射谱。银膜择优取向(111)晶向,0.18nm/s的样品衍射峰强度最大、衍射峰半峰全宽最小、晶粒尺寸最大,说明此沉积速率下结晶程度最高。过快或者过慢的沉积速率会导致银膜结晶程度下降,从而导致平均消光系数增大和反射率下降。在实验条件下,银膜的最佳沉积速率在0.18nm/s附近,此时制备的银膜具备最好的结晶程度和最高的反射率,此结论不同于传统意义上认为热蒸发银膜速率越快,成膜质量越高、光谱特性越好的观点。
卢宝文徐学科余祥范正修
关键词:薄膜光学银膜沉积速率
可调沉积速率的真空镀膜机挡板
一种可调沉积速率的真空镀膜机挡板,包括一块耐高温的圆板,该圆板的圆心处垂直地连接一个转轴,该转轴的下端连接一驱动装置,其特点在于所述的圆板,自圆心辐射地划分为多个扇区,这些扇区依次为全挡区、不挡区和一个以上阻挡程度由小变...
卢宝文徐学科范正修
文献传递
金属-介质薄膜的制备工艺和缺陷研究
本文的工作以金属-介质薄膜的制备工艺和多腔诱导透射滤光片的缺陷为重心。从单重到多重,从理论到应用,对金属-介质薄膜进行了逐层深入的研究,主要内容包括以下几部分:   研究热蒸发金属银膜的微结构和光学性质。研究发现通常认...
卢宝文
关键词:沉积速率光学性质
多腔诱导透射滤光片缺陷的成因分析及抑制被引量:1
2010年
多腔诱导透射滤光片制备后出现的缺陷,严重地影响了薄膜样品的品质以及环境稳定性。实验用热蒸发的方法在室温浮法玻璃基底上制备了四腔诱导透射滤光片。用光学显微镜观测了缺陷的形貌,将缺陷分为不同类型的点状缺陷和线状缺陷,并结合光学轮廓仪和电子能量散射谱仪分析了缺陷的深度以及元素成份。分析结果显示,基片污染、喷溅以及应力、亚表面缺陷等综合因素是诱发缺陷产生的主要原因。为减少缺陷数量以及其尺寸和深度,实验验证了基底酸洗工艺对缺陷的抑制效果,证明了酸洗工艺具有可行性。最后结合缺陷产生的可能原因提出了制备工艺改进措施,已经取得了较好的成果。
卢宝文徐学科刘光辉胡国行刘晓凤范正修
关键词:光学薄膜酸洗工艺
可调沉积速率的真空镀膜机挡板
一种可调沉积速率的真空镀膜机挡板,包括一块耐高温的圆板,该圆板的圆心处垂直地连接一个转轴,该转轴的下端连接一驱动装置,其特点在于所述的圆板,自圆心辐射地划分为多个扇区,这些扇区依次为全挡区、不挡区和一个以上阻挡程度由小变...
卢宝文徐学科范正修
文献传递
共1页<1>
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