姜念云
- 作品数：5 被引量：14H指数：2
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程理学经济管理更多>>
- 提高应用能力是发挥科技作用的关键
- 2005年
- 通过对科技知识生产和应用活动的特点以及我国的有关认识和发展现状的分析,认为进一步注意将科技知识生产和应用活动作为两个不同维度下的创新活动来组织,将更有利于科技作用的发挥。而提高科技知识的应用能力,则是我国加快自主创新能力培养,发挥企业创新优势,切实、充分发挥科技对于国民经济建设推动作用的关键。
- 姜念云
- 关键词：科技与经济结合自主创新
- 紫光高均匀照明实验装置及结构设计被引量：2
- 1996年
- 介绍了一种可对分步重复投影光刻机照明系统性能进行研究的紫光高均匀照明实验装置及总体结构设计。说明了在该装置的结构设计上所遇到的主要问题及解决方法。使用此装置可以对照明系统在多种不同照明条件下的照明均匀性等性能进行实验研究；并且可与光刻物镜、工件台组合成一套曝光系统，开展微细加工光刻技术的曝光实验研究。
- 姜念云王永茹侯德胜林大键
- 一种接近式缩小光刻曝光台
- 本实用新型提供了一种可在接近式光刻技术条件下,进行缩小曝光的接近式缩小光刻曝光台,该装置的特点是将承片台固定在一可移动的驱动架上,用大行程连续微位移控制机构移动驱动架,使掩模面与硅片表面之间隙,按照光的近场衍射特性进行任...
- 姜念云胡思福
- 文献传递
- 利用近场衍射进行接近式衍射缩小曝光的方法
- 1997年
- 通过对接近式光刻中光通过掩模版后的近场衍射特性的计算机模拟分析和曝光实验，提出了一种新型的接近式衍射缩小曝光方法，适用于紫外和Ｘ射线的接近式曝光。利用此方法，采用间隙在一定范围内可调的通用接近式曝光机，可在接近式曝光技术条件下，实现缩小曝光，可使实现亚半微米线宽图形的曝光和使其掩模版制作更为容易；并且具有等量缩小和焦深大的特点。
- 姜念云胡思福
- 关键词：衍射光刻技术
- 深蚀刻二元光学元件被引量：12
- 1996年
- 提出一种新颖的、蚀刻位相深度超过２π的深蚀刻二元光学技术，并从理论上分析深蚀刻二元光学元件与衍射效率的关系，然后用计算机进行模拟与分析。
- 徐平唐继跃郭履容郭永康杨家发姜念云李展杜春雷
- 关键词：深刻蚀衍射光学二元光学元件
