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掺杂非醚聚苯基喹噁啉薄膜电致发光的研究被引量：3: 1996年; 掺杂非醚聚苯基喹噁啉薄膜电致发光的研究邓振波，黄京根，董树忠，王建宝，张博，陆访，孙恒慧（复旦大学物理系，复旦大学材料系，上海２００４３３）聚合物薄膜电致发光（ＰＴＦＥＬ）器件的主要特点是制造方便、设备简单、成本低廉并且可以通过改变材料体系、掺杂或调...; 邓振波黄京根董树忠王建宝张博陆访孙恒慧; 关键词：电致发光器件

亚稳态Ge_xSi_(1-x)/Si单量子阱的缺陷性质: 1997年; 对于处在亚稳态生长区域内阱宽为15um锗组分x=0．25、0．33、0．40的单量子阱样品，及阱宽相同x=0．45、0．53的单量子阱样品，首先通过喇曼光谱测量了样品的应变弛豫程度，发现当锗组分增加到X≥0．45时，其应变开始逐渐弛豫，然后通过测量深能组瞬态谱（DLTS），研究应变弛豫程度不同的样品中形成的缺陷性质。在X=0.25、0.33、0．40样品中均可以观察到量子阱中载流子发射产生的DLTS峰，由它求得的能带们移值与理论预计值符合。对于X=0．45、0．53样品阱中载流子发射信号已被缺陷信号淹没，表明此时样品的缺陷浓度很大。相应的缺陷情况是：对于应变未弛豫的样品（X=0．25），DLTS测得的缺陷为一点缺陷；对于应变基本未弛豫的样品（X=0．33、0．40）DLTS测得的缺陷主要为一组界面缺陷；而应变部分弛豫的样品（X=0．45、0．53），DLTS测得的缺陷与前三种样品不同，样品的缺陷可能与形成的穿透位错有关。通过电化学腐蚀，可以确定这些缺陷均位于异质界面附近。; 张博王建宝刘晓晗龚大卫陆方孙恒慧; 关键词：亚稳态锗

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张博