您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇逾渗
  • 1篇无损检测
  • 1篇静电
  • 1篇MOSFET

机构

  • 1篇西安电子科技...

作者

  • 1篇万长兴
  • 1篇马仲发
  • 1篇庄奕琪
  • 1篇施超
  • 1篇薛丽君
  • 1篇杜磊

传媒

  • 1篇西安电子科技...

年份

  • 1篇2002
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
1/f噪声检测MOSFET静电潜在损伤的理论基础被引量:8
2002年
分析了MOSFET静电损伤的机理 ,发现在静电应力期间 ,随着应力次数的增加 ,在SiO2 体内和Si/SiO2 界面同时产生潜在损伤积累 .Si/SiO2 界面较SiO2 层体内更容易产生缺陷 ,而且缺陷浓度更大 .用逾渗理论模拟了MOSFET中 1/f噪声与边界陷阱浓度的关系 ,得出了与实验相一致的定性结果 ,为MOSFET静电潜在损伤的沟道漏源电流 1/f噪声检测方法提供了理论依据 .
马仲发庄奕琪杜磊薛丽君万长兴施超
关键词:MOSFET静电无损检测逾渗
共1页<1>
聚类工具0