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王宏斌

作品数:12 被引量:19H指数:3
供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 3篇电子电信
  • 3篇理学
  • 2篇机械工程
  • 1篇化学工程
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 7篇溅射
  • 7篇磁控
  • 4篇氧分压
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇射频磁控
  • 3篇显微结构
  • 3篇晶体
  • 3篇晶体结构
  • 3篇反应溅射
  • 3篇HFO
  • 3篇磁控反应溅射
  • 2篇电网
  • 2篇电子束
  • 2篇电子束炉
  • 2篇锭杆
  • 2篇真空
  • 2篇真空电子束
  • 2篇三相电网
  • 2篇射频磁控反应...
  • 2篇探伤

机构

  • 12篇北京有色金属...
  • 1篇北京科技大学

作者

  • 12篇王宏斌
  • 7篇张树玉
  • 7篇苏小平
  • 5篇刘嘉禾
  • 4篇刘伟
  • 4篇郝鹏
  • 2篇李勍
  • 2篇张睿
  • 2篇戴天舒
  • 2篇刘伟
  • 2篇闫兰琴
  • 2篇张延宾
  • 2篇孙照富
  • 2篇廉杰
  • 2篇阎兰琴
  • 2篇宁堃
  • 1篇杨光
  • 1篇高英奇
  • 1篇伍星
  • 1篇吕反修

传媒

  • 2篇人工晶体学报
  • 2篇激光与红外
  • 1篇分析试验室
  • 1篇无损检测
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇北京金属学会...

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 3篇2008
  • 2篇2007
  • 1篇2003
  • 1篇1995
  • 1篇1994
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
真空电子束炉用自动铸锭控制系统及其控制方法
本发明公开了一种真空电子束炉用自动铸锭控制系统及其控制方法。自动铸锭控制系统包括工控机、PLC控制器、伺服电机驱动器、拉锭电机,工控机通过工业以太网总线与PLC控制器连接,PLC控制器的伺服控制通讯端口通过工业以太网总线...
张睿李勍戴天舒王宏斌黄蓉孙照富宁堃王熺炜张延宾刘鹏华
文献传递
气阀涡流探伤技术
1995年
全国铁路系统普遍采用内燃机车,因此内燃机车运行的安全和可靠性是决定铁路运输安全正点的最关键因素之一。每一台内燃机车中有64只气阀,而气阀的工作条件十分恶劣,经常因为气阀磨损、腐蚀、变形等致使内燃机车柴油机功率降低,影响运输能力,更危险的是排气阀破损,打坏气缸,造成故障,使行车安全受到威胁,如何保证进、排气阀的使用安全是人们十分关注的问题。为了保证气阀在高温工作时有良好的耐磨损性、抗氧化和抗燃气腐蚀能力,气阀盘面采用等离子堆焊,对堆焊的工艺要求是比较严格的,如果堆焊材料成分、性能以及堆焊工艺,机械设备不当,就会造成气阀有夹杂和气孔,金属含量偏析或应力集中也会直接影响气阀的质量性能和使用寿命。如何能预知气阀的质量。
马秀莲王振华袁琪廉杰王宏斌
关键词:内燃机车气阀涡流检验探伤
全文增补中
YL-110型流动注射测金装置的研制被引量:3
1994年
研制了一台流动注射测金装置。该装置由一台四道蠕动泵、两支旋转阀,一支8531纤维分离富集柱和有关电路组成一个整体,靠蠕动泵自动输送试样溶液,酸洗液和金洗脱液,使金在Φ3×40mm的微型纤维柱上富集,由控制电路控制旋转阀切换自动完成柱平衡,进样,洗涤,洗脱过程,金洗脱液自动送入原子吸收分光光度计测定金。8531纤维是金的良好吸附剂,具有选择性容量大的优点。试样经王水分解后可直接进样测定。该装置与原子吸收分光光度计联用测定金。金的特征浓度可达0.6ng/mL每小时可测定40~60次。用本装置分析0.16μg/mL金溶液,RSD为0.8%。用于分析化探样品,铜精矿,电解铜等试样中金,得到满意的结果。
高英奇郑永章伍星吴海洲潘鸿器王宏斌
关键词:流动注射原子吸收光谱
HfO2薄膜反应磁控溅射沉积工艺的研究被引量:3
2008年
采用纯铪(Hf)金属靶,在氧和氩反应气氛中进行了HfO2薄膜反应磁控溅射沉积,研究了电源功率、O2/Ar比例和工作气压对薄膜组成及薄膜沉积过程的影响。对制备的HfO2薄膜进行了退火处理,利用X射线衍射仪(GIXRD)、红外波谱仪(FT-IR)和场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)表征了退火前后HfO2薄膜的显微结构、组织组成及红外透过性能。采用胶带测试测定了HfO2薄膜的附着性能。本研究得到了优化的沉积工艺参数。
贺琦王宏斌张树玉吕反修杨海苏小平
关键词:HFO2薄膜红外透过率
真空电子束炉用自动铸锭控制系统
本实用新型公开了一种真空电子束炉用自动铸锭控制系统。自动铸锭控制系统包括工控机、PLC控制器、伺服电机驱动器、拉锭电机,工控机通过工业以太网总线与PLC控制器连接,PLC控制器的伺服控制通讯端口通过工业以太网总线与伺服电...
张睿李勍戴天舒王宏斌黄蓉孙照富宁堃王熺炜张延宾刘鹏华
文献传递
氧分压对HfOzNy薄膜结构和光学性能的影响
本文用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜,沉积过程在氧气、氮气和氩气的气氛中进行,衬底为多光谱ZnS,沉积温度为室温.用X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜、傅立叶变换红外光谱仪、紫外可见分光光度计等分别研究了...
刘伟苏小平张树玉郝鹏王宏斌刘嘉禾阎兰琴
关键词:半导体薄膜磁控溅射晶体结构薄膜光学
文献传递
制备工艺条件对HfO_2薄膜结构和性能的影响被引量:8
2008年
用电子束蒸发、离子束辅助、反应磁控溅射三种方法在石英衬底上制备了氧化铪薄膜。利用掠角X射线衍射和扫描电镜分析了不同制备工艺条件下氧化铪薄膜的晶体结构和显微结构,用紫外-可见分光光度计、椭偏仪、和纳米硬度计分别测试了不同制备工艺条件下氧化铪薄膜的可见透射光谱、光学常数和硬度。结果表明薄膜的晶体结构、显微结构、光学性能和硬度等都与制备工艺有着密切的关系,电子束蒸发制备的薄膜为非晶相,而离子束辅助和反应磁控溅射制备的薄膜为多晶相,三种方法制备的氧化铪薄膜都为柱状结构,电子束蒸发和离子束辅助制备的薄膜色散严重,但反应磁控溅射制备的薄膜吸收较大,反应磁控溅射制备薄膜的硬度远大于电子束蒸发和离子束辅助制备薄膜的硬度。并分别用薄膜成核长大热力学原理和薄膜结构区域模型解释了不同工艺条件下氧化铪薄膜晶体结构和显微结构不同的原因。
刘伟苏小平张树玉郝鹏王宏斌刘嘉禾
关键词:电子束蒸发离子束辅助反应磁控溅射光学性能
氧分压对HfOxNy薄膜结构和力学性能的影响
用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料. 用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfO...
刘伟苏小平张树玉闫兰琴王宏斌刘嘉禾
关键词:射频磁控反应溅射晶体结构显微结构力学性能
氧分压对HfO_xN_y薄膜结构和力学性能的影响
2009年
采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料。用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、力学性能等。结果表明:在氧分压为0.05~0.30范围内,HfOxNy薄膜都为多晶结构,但随着氧分压的降低,HfOxNy薄膜的沉积速率逐渐增大,薄膜的晶体结构由单斜氧化铪转变为氮氧化铪相;不同氧分压下沉积的HfOxNy薄膜都符合薄膜区域结构模型中典型的柱状结构且氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;不同氧分压条件下沉积的HfOxNy薄膜硬度和弹性模量都远大于衬底硫化锌的硬度和弹性模量,氧分压为0.15时最大硬度和弹性模量值分别为11.6 GPa和160 GPa。
刘伟苏小平张树玉闫兰琴王宏斌刘嘉禾
关键词:射频磁控反应溅射晶体结构显微结构
硫化锌衬底上氧化铪保护膜制备及性能研究被引量:6
2007年
采用磁控溅射法在硫化锌衬底上制备了氧化铪薄膜,并对氧化铪薄膜的结构和性能进行了分析和测试.结果表明,制备的氧化铪薄膜结构为单斜相,膜层致密,在8~12 μm波段对硫化锌衬底的透过率没有明显影响,硬度显著高于衬底的硬度,且与衬底结合良好,适合用作硫化锌的红外保护膜.
刘伟苏小平张树玉王宏斌郝鹏
关键词:硫化锌保护膜射频磁控溅射
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