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文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 2篇学位论文

领域

  • 6篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 6篇OLED
  • 4篇有机发光
  • 4篇有机发光器件
  • 4篇发光
  • 4篇发光器件
  • 4篇掺杂
  • 3篇电子注入
  • 3篇电子注入层
  • 2篇多晶
  • 2篇多晶硅
  • 2篇准分子
  • 2篇准分子激光
  • 2篇相位掩模
  • 2篇晶粒
  • 2篇扩散
  • 2篇激光
  • 2篇分子
  • 2篇高氯酸
  • 2篇N型
  • 2篇N型掺杂

机构

  • 8篇吉林大学

作者

  • 8篇张睿
  • 6篇崔国宇
  • 6篇李传南
  • 4篇刘式墉
  • 4篇赵毅
  • 3篇侯晶莹
  • 3篇张健
  • 3篇李涛
  • 2篇林广平
  • 1篇刘奎学

传媒

  • 2篇光子学报
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇第七届全国暨...
  • 1篇中国光学学会...

年份

  • 3篇2012
  • 4篇2011
  • 1篇2010
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
准分子激光相位掩模板法制备大晶粒尺寸多晶硅薄膜技术的研究
多晶硅薄膜晶体管(p-Si TFTs)的迁移率远高于非晶硅TFT,并且组成电路时可以采用类似于CMOS的互补电路结构,因此p-Si TFTs常用于平板显示器如AMLCD、AMOLED的像素及外围驱动电路中.准分子激光退火...
林广平张健张睿崔国宇高志扬刘奎学曲世东李传南
关键词:多晶硅准分子激光相位掩模
化合物RbBr作为OLED阴极缓冲层和电子掺杂剂的研究
李传南崔国宇高志扬张健张睿赵毅刘式墉
采用Li_3Nn型掺杂层作为电子注入层的OLED器件研究被引量:11
2011年
相对于传统的无机半导体材料,有机半导体材料特别是有机电子传输材料的载流子浓度和迁移率较低,从而影响了有机发光器件的亮度、效率等性能.为了提高有机发光器件器件性能必须增强电子注入和传输能力,对有机电子传输材料进行n型电学掺杂能够有效地提高电子的注入和传输能力.本文利用Li3N作为n型掺杂剂,以掺杂层Alq3∶Li3N作为电子注入层,有效地提高了有机发光器件器件的性能,在掺杂浓度为5%,掺杂层厚度为10 nm时器件性能表现为最优.Li3N在空气中稳定,并且在较低的温度和压强下能分解产生Li原子和氮气,避免了采用金属掺杂剂如Li、Cs等材料时易受空气中水分和氧气影响的缺点,有利于工艺处理.
崔国宇李传南李涛张睿侯晶莹赵毅刘式墉
关键词:有机发光器件N型掺杂电子注入层
一种采用Li_3N掺杂电子注入层的底发射倒置结构OLED的制备被引量:7
2011年
采用Li3N掺杂电子注入层Alq3∶Li3N,制作了一种结构为ITO/Alq3Alq3∶Li3N/Alq3/NPB/MoO3/Al的倒置底发射有机发光器件.其中ITO玻璃作为透明阴极,金属Al作为顶部阳极,在ITO阴极与电子传输层之间加入Li3Nn型掺杂层,改善了该器件的电子注入和传输能力;在Al阳极与空穴传输层之间加入MoO3缓冲层,降低了Al阳极与NPB之间较大的空穴注入势垒,改善了空穴注入能力.实验表明:此结构的倒置底发射有机发光器件性能可达到传统结构的常用有机发光器件如ITO/NPB/Alq3/LiF/Al的性能,完全可以满足非晶硅薄膜晶体管有源有机发光器件中驱动电路的匹配及性能要求.
张睿李传南李涛崔国宇侯晶莹赵毅刘式墉
关键词:有机发光器件N型掺杂势垒
利用CsCIO<sub>4</sub>改善OLED性能及OLED中电学掺杂剂扩散的研究
利用CsClO<sub>4</sub>改善OLED性能及OLED中电学掺杂剂扩散的研究有机发光器件(Organic Light-emitting Device, OLED)是利用某些有机材料的电致发光现象而制成的发光器件...
张睿
关键词:扩散
一种采用Li3N掺杂电子注入层的底发射倒置结构OLED的制备
ITO玻璃因为具有透光性好、易于制备等优点而广泛用作有机发光器件(OLED)的衬底和阳极电极,而OLED的顶电极通常使用不透明的金属阴极,例如Mg:Ag、Al/LiF等,在正负电极之间是各种功能有机材料层如空穴注入和传输...
张睿李传南李涛崔国宇侯晶莹赵毅刘式墉
关键词:有机发光器件
利用CsCIO_4改善OLED性能及OLED中电学掺杂剂扩散的研究
利用CsClO_4改善OLED性能及OLED中电学掺杂剂扩散的研究 有机发光器件(Organic Light-emitting Device, OLED)是利用某些有机材料的电致发光现象而制成的发光器件。典型的OLED器...
张睿
关键词:有机发光器件扩散
文献传递
准分子激光相位掩模法制备大晶粒尺寸多晶硅薄膜被引量:5
2012年
为扩大晶粒尺寸并降低晶粒间界缺陷对多晶硅薄膜晶体管的不良影响,采用准分子激光相位掩模法制备了大晶粒尺寸的多晶硅薄膜。首先,在无相位掩模时利用不同能量密度的准分子激光晶化非晶硅薄膜,通过扫描电镜观测晶粒尺寸确定超级横向生长的能量窗口;然后,在该能量密度下采用周期为1 073nm的相位掩模板对入射光束进行相位调制,在样品表面形成人工可控的横向温度梯度,使非晶硅熔化并横向生长结晶为多晶硅;最后,对薄膜特性进行测量,并与非晶硅薄膜和超级横向生长制备的多晶硅薄膜进行比较。结果表明:本文方法制作的薄膜的平均晶粒尺寸提高了一个数量级,达到了228.24nm;薄膜电阻率降低一个数量级,为18.9Ω.m;且晶粒分布规则有序。该方法能有效提高多晶硅薄膜的电学特性,适用于高质量多晶硅薄膜器件的制作。
张健林广平张睿崔国宇李传南
关键词:多晶硅薄膜准分子激光相位掩模
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