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陈佳楣

作品数:8 被引量:3H指数:1
供职机构:天津职业技术师范大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 4篇专利

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 6篇NIO
  • 4篇欧姆接触
  • 4篇欧姆接触电极
  • 4篇接触电极
  • 4篇击穿电压
  • 4篇二极管
  • 4篇反向击穿
  • 4篇反向击穿电压
  • 3篇热蒸发
  • 3篇热蒸发法
  • 3篇掺杂
  • 2篇电流
  • 2篇电流密度
  • 2篇整流特性
  • 2篇溅射
  • 2篇CU/ZN
  • 2篇CU掺杂
  • 2篇G/T
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射

机构

  • 8篇天津职业技术...
  • 2篇东京理科大学

作者

  • 8篇李彤
  • 8篇陈佳楣
  • 6篇王铁钢
  • 3篇倪晓昌
  • 2篇赵新为
  • 2篇范其香
  • 1篇王达夫
  • 1篇刘真真
  • 1篇王铁刚

传媒

  • 2篇天津职业技术...
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇发光学报

年份

  • 1篇2018
  • 4篇2016
  • 3篇2015
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
一种NiO:Ag/TiOx异质pn结二极管
本发明公开了一种NiO:Ag/TiOx异质pn结二极管,至少包括pn结和欧姆接触电极,所述pn结在Si衬底上生长p型NiO:Ag薄膜以及n型TiOx薄膜得到异质pn结。本发明利用磁控溅射工艺在Si衬底上制备NiO:Ag/...
李彤王铁钢陈佳楣
文献传递
氧气含量对射频磁控溅射方法制备的NiO∶Cu/ZnO异质pn结的光电性能的影响被引量:1
2016年
利用磁控溅射方法改变氧气含量制备了一系列NiO∶Cu/ZnO异质pn结。实验结果表明,氧含量对NiO∶Cu/ZnO异质pn结电学影响很大。相对于纯氩溅射,引入一定氧气(O2/(Ar+O2)比例为30%)后,NiO∶Cu/ZnO异质pn结的整流特性明显得到改善。与此同时,NiO∶Cu/ZnO异质pn结的光透过率也从40%增大到80%。这可能是由于氧气的轻量引入致使NiO∶Cu/ZnO异质pn结的结晶得到改善,薄膜内缺陷减少所致。进一步提高氧气含量,直到O2/(Ar+O2)比例至80%后,异质结的整流特性有所削弱,这可能是由于过多氧气的引入造成薄膜缺陷再次增多,进而影响到异质结的整流特性。这一结论得到了EDS、XRD、AFM和UV结果的支持。
李彤EVARIST Mariam王铁钢陈佳楣范其香倪晓昌赵新为
关键词:NIOCU掺杂磁控溅射整流特性
一种NiO:Ag/TiOx异质pn结二极管
本发明公开了一种NiO:Ag/TiOx异质pn结二极管,至少包括pn结和欧姆接触电极,所述pn结在Si衬底上生长p型NiO:Ag薄膜以及n型TiOx薄膜得到异质pn结。本发明利用磁控溅射工艺在Si衬底上制备NiO:Ag/...
李彤王铁钢陈佳楣
文献传递
衬底温度对NiO:Cu/ZnO异质pn结的光电性能影响被引量:2
2016年
利用磁控溅射方法改变衬底温度,制备了一系列NiO:Cu/ZnO异质pn结。实验结果表明,当衬底温度从室温升高到300℃时,NiO:Cu/ZnO异质pn结的整流特性明显得到改善;与此同时,NiO:Cu/ZnO异质pn结的光学透过率也从40%增大到80%。这可能是由于NiO:Cu薄膜结晶质量改善,薄膜内缺陷减少所致。继续增加衬底温度至400℃,异质结的整流特性有所削弱,这可能是由于生长在异质结下层的NiO:Cu薄膜影响了其上ZnO薄膜的生长,进而影响到异质结的整流特性。这一结论,得到X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外(UV)谱测试结果的支持。
李彤王铁钢陈佳楣倪晓昌Evarist Mariam赵新为
关键词:NIOCU掺杂磁控溅射整流特性
N掺杂对ZnO∶Mn薄膜结构特性的影响
2015年
Mn掺杂ZnO(以下简称ZnO∶Mn)稀磁半导体的磁性根源之一来源于晶体内部的晶化程度及晶格畸变。本文利用磁控溅射方法在玻璃衬底上室温沉积了ZnO、ZnO∶Mn以及Mn和N共掺杂(以下简称ZnO∶(Mn,N))薄膜。同时结合XRD衍射谱、SEM图和Raman光谱分析了掺入Mn和N元素后ZnO薄膜的结构变化。Raman光谱结果显示,在引入Mn元素以及进一步引入N元素后,薄膜内对应于E2(high)振动模式的Raman特征峰始终保持,说明ZnO、ZnO∶Mn以及ZnO∶(Mn,N)薄膜一直是六角纤锌矿结构。拟合的Raman特征峰显示由于Mn和N元素引入而引起的局域振动峰,暗示Mn和N元素已经进入薄膜内部。此外,Mn引入到ZnO薄膜后,Raman结果显示对应于E2(high)振动模式的特征峰左移,说明Mn元素的引入并没有破坏薄膜内六角纤锌矿结构,但是该结构的畸变更大,这可能是Mn进入ZnO晶格内部,并对Zn进行替代造成的。这一结果也得到了XRD测试显示的(002)衍射峰左移的支持。N掺入后影响了Mn在薄膜内的含量,使得薄膜内Mn含量减少,进而引起晶格缺陷也随之减少。
李彤王铁刚陈佳楣倪晓昌
关键词:ZNOMN拉曼稀磁半导体
一种NiO:Al/ZnO异质pn结二极管
本发明公开了一种NiO:Al/ZnO异质pn结二极管,至少包括pn结和欧姆接触电极,所述pn结在Si衬底上生长p型NiO:Al薄膜以及n型ZnO薄膜得到异质pn结。本发明利用磁控溅射工艺在Si衬底上制备NiO:Al/Zn...
李彤陈佳楣王达夫
文献传递
PSPICE中新型器件忆阻器的建立
2016年
针对神经网络难以用硬件设备实现、且软件实现比较耗时的问题,分析了忆阻器的特性及内部机理,采用PSPICE软件对忆阻器进行了研究。忆阻器是除电阻、电感和电容之外的第4种基本无源电子器件,其阻值随流经它的电荷量变化而变化,在断开电流时保持其阻值不变,有记忆电阻的性质,可应用于工程方面。本文通过PSPICE语句描述了忆阻器的内部结构,使用子电路的方法构建了忆阻器模型,仿真验证了器件具有忆阻的特性。
李彤陈佳楣刘真真Mariam王铁钢范其香
关键词:子电路PSPICE
一种NiO:Na/TiOx异质pn结二极管
本发明公开了一种NiO:Na/TiOx异质pn结二极管,至少包括pn结和欧姆接触电极,所述pn结在Si衬底上生长p型NiO:Na薄膜以及n型TiOx薄膜得到异质pn结。本发明利用磁控溅射工艺在Si衬底上制备NiO:Na/...
李彤王铁钢陈佳楣
文献传递
共1页<1>
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