2025年3月13日
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沈俊杰
作品数:
5
被引量:2
H指数:1
供职机构:
华中科技大学
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相关领域:
电子电信
轻工技术与工程
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合作作者
独莉
华中科技大学
陈鹏飞
华中科技大学
汤自荣
华中科技大学
廖广兰
华中科技大学
史铁林
华中科技大学
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机构
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华中科技大学
作者
5篇
沈俊杰
4篇
史铁林
4篇
廖广兰
4篇
汤自荣
4篇
陈鹏飞
4篇
独莉
2篇
谭先华
2篇
宿磊
2篇
邵杰
年份
1篇
2019
2篇
2017
1篇
2016
1篇
2015
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5
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一种基于铜纳米棒的铜锡铜键合工艺及结构
本发明公开了一种基于铜纳米棒的铜锡铜键合工艺及结构,该工艺包括:在基片表面依次沉积绝缘层、粘附层和种子层;在种子层上旋涂一层光刻胶,并在光刻胶上制作圆孔;在圆孔中电镀铜获得铜凸点;去除光刻胶,并去除暴露的种子层和粘附层;...
廖广兰
独莉
史铁林
汤自荣
陈鹏飞
沈俊杰
邵杰
文献传递
一种基于铜纳米棒的铜锡铜键合工艺及结构
本发明公开了一种基于铜纳米棒的铜锡铜键合工艺及结构,该工艺包括:在基片表面依次沉积绝缘层、粘附层和种子层;在种子层上旋涂一层光刻胶,并在光刻胶上制作圆孔;在圆孔中电镀铜获得铜凸点;去除光刻胶,并去除暴露的种子层和粘附层;...
廖广兰
独莉
史铁林
汤自荣
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一种基于铜纳米线的铜铜键合工艺
本发明公开了一种铜纳米线的铜铜键合工艺。在基片表面依次沉积粘附层和种子层;在种子层上制备一层光刻胶,并在光刻胶上制作圆孔;在圆孔中电镀铜,得到铜凸点;利用水热法在铜凸点表面生长Cu(OH)<Sub>2</Sub>纳米线;...
廖广兰
独莉
史铁林
谭先华
宿磊
陈鹏飞
沈俊杰
汤自荣
一种基于铜纳米线的铜铜键合工艺
本发明公开了一种铜纳米线的铜铜键合工艺。在基片表面依次沉积粘附层和种子层;在种子层上制备一层光刻胶,并在光刻胶上制作圆孔;在圆孔中电镀铜,得到铜凸点;利用水热法在铜凸点表面生长Cu(OH)<Sub>2</Sub>纳米线;...
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史铁林
谭先华
宿磊
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沈俊杰
汤自荣
文献传递
基于铜纳米棒的低温互连工艺研究
随着芯片集成度不断提高、电子产品小型化,集成电路特征尺寸已逐渐趋近物理极限,材料、工艺等方面遇到了许多难以逾越的瓶颈,传统二维集成技术已经不能解决功耗增加和互连延迟等导致的性能及成本问题。三维集成技术具有减少传输延时、降...
沈俊杰
关键词:
集成电路
低温键合
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