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非热等离子体材料表面处理及功能化研究进展被引量：13: 2021年; 等离子体技术在现代材料制备和表面处理过程中起着重要的作用.本文聚焦于非热等离子体(NTP)材料表面处理及功能化应用,重点综述NTP在材料表面处理及功能化过程中的最新研究进展,包括激励产生等离子体的等离子体源、NTP材料表面处理及功能化工艺以及具体应用.其中,激励产生等离子体的等离子体源包括感应耦合等离子体/容性耦合等离子体、电子回旋共振/表面波等离子体、螺旋波等离子体、大气压射流等离子体和介质阻挡放电等;NTP材料表面处理及功能化工艺包括等离子体表面接枝和聚合、等离子体增强化学气相沉积和等离子体辅助原子层沉积、等离子体增强反应刻蚀和等离子体辅助原子层刻蚀工艺等;等离子体表面处理及功能化的具体应用领域包括亲水/疏水表面改性、表面微纳加工、生物组织表面处理、催化剂表面处理等.最后提出了NTP技术材料表面处理及功能化的应用前景与发展趋势.; 张海宝陈强; 关键词：等离子体表面处理接枝刻蚀

高功率脉冲磁控溅射沉积氧化镁薄膜: 氧化镁是良好的功能薄膜材料，绝缘、热稳定性能好、化学性质稳定，广泛应用于等离子显示屏中的介质保护膜以及功能薄膜外延生长的介质缓冲层.目前，沉积氧化镁薄膜的方法很多[1]，主要包括液相的溶胶凝胶法、物理气相沉积法(电子束蒸...; 张海宝袁燕王正铎桑利军杨丽珍陈强

一种新型食品包装盒: 本实用新型食品包装盒是鉴于上述问题做出的，通过改变包装盒的结构，在节约包装材料的基础上通过改变食品包装盒的结构使食品携带更加方便。本实用新型食品包装盒，该包装盒包括：盛装饮品的上腔(1)；盛装食物的下腔(2)；吸管(3)...; 罗耿杰石佳子张笠峥张海宝付亚波廖瑞娟张新林; 文献传递

一种新型牙膏包装: 本实用新型所述的一种新型牙膏包装，包括上链带(1)、下链带(7)、上拉头(2)、下拉头(6)、上腔体(3)和下腔体(5)，阻隔层(4)，为达到此发明目的，本实用新型采用如下技术方案：在取用时可以移动拉头，调节开口的大小来...; 黄艳志石佳子刘桂玉张海宝张笠峥付亚波廖瑞娟张新林

分子层沉积纳米薄膜的现状和发展: 2021年; 随着微电子技术、锂离子电池和太阳能电池等行业的发展,人们对聚合物薄膜,尤其是纳米级聚合物薄膜的要求也越来越高。在传统的沉积方法不能满足要求的条件下,找到新的沉积聚合物的方法势在必行。分子层沉积(MLD)是一种类似于原子层沉积的技术,它可以精确控制聚合物膜的厚度、组成、形貌和保形性。因此,MLD可以成为制备聚合物薄膜的一种新方法。本文综述了分子层沉积的原理和方法,以及在薄膜领域的发展和应用,最后给出了分子层沉积技术未来发展所面对的挑战和展望。; 陈谦杨丽珍刘忠伟张海宝陈强

化学气相沉积技术制备碳化镍与镍薄膜的研究: 过渡金属碳化物具有良好的机械和化学稳定性。并且由于其独特的电子结构和地球丰度,可作为价格高昂的贵金属电催化剂的替代物。原子层沉积技术(ALD)是一种新型的化学气相沉积制备技术,具有组分可控可调、厚度均匀精确、薄膜一致性好...; 刘忠伟张翔宇田旭王正铎张海宝陈强; 关键词：化学气相沉积原子层沉积; 文献传递

一种防误开包装盒: 本实用新型公开一种防误开包装盒。所述防误开包装盒包括第一圆盖与第二圆盖，第一圆盖的半径小于第二圆盖的半径。第一圆盖外壳为光滑圆柱体，与内层镂空圆片相衔接，在外壳内具有类似卡口的凹槽结构。第二圆盖同第一圆盖结构，但外壳内没...; 熊子怡石佳子张笠峥张海宝; 文献传递

一种高附着力镀铝膜: 本实用新型公开了一种高附着力镀铝膜，属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。一种高附着力镀铝膜，包括镀膜基材和最外层的镀铝层，在镀膜基材和最外层的镀铝层之间有金属缓冲层，金属缓冲层的厚度为5‑50nm，镀铝层的厚度为10‑20...; 张海宝陈强袁燕王正铎桑利军; 文献传递

滑动弧等离子体固氮研究进展被引量：1: 2023年; 传统工业固氮采用哈伯-博施(Haber-Bosch)工艺,但是需要高温高压,能耗高,污染严重。滑动弧等离子体(Gliding arc plasma,GAP)兼具热等离子体和冷等离子体的优点,能够高效地产生活性物种,显著提高能量效率,使其在固氮领域具有很大的潜在应用价值,近年来受到人们的广泛关注。然而,目前GAP固氮相关研究还比较零散,有必要对具体内容进行总结归纳。本文主要综述了近10年来国内外GAP固氮研究进展,主要包括GAP放电机制、反应器设计、工艺参数研究以及固氮反应机理研究。GAP放电存在击穿伴随滑动放电的B-G模式和持续稳定放电A-G模式,A-G模式放电有助于提高固氮效率。随着滑动弧放电技术的不断发展,GAP反应器中电极结构从传统的2D刀片结构演变到了多种3D柱形结构。通过工艺优化,GAP有助于N_(2)分子的振动激发,从而促进N_(2)分子的分裂转化。最后,对GAP固氮研究进行了展望。; 徐晓芳陈强张海宝; 关键词：固氮反应器能耗反应机理

直流和高功率磁控溅射制备氮化铬薄膜及其结构性能比较被引量：4: 2019年; 目的比较直流磁控溅射(DCMS)和高功率磁控溅射(HiPIMS)两种沉积技术制备的氮化铬(CrN)薄膜的结构和性能。方法采用DCMS和HiPIMS沉积技术,在金属镍(Ni)基底上沉积CrN薄膜,采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和显微硬度计等仪器,分析CrN薄膜的晶相结构、表面以及截面形貌、基底与薄膜复合硬度、摩擦性能等。结果XRD晶体测量显示DCMS制备的CrN薄膜在(111)晶面择优生长,内应力大;而HiPIMS制备的CrN薄膜为(200)晶面择优生长,内应力小。SEM显示两种方法制备的CrN薄膜都呈柱状晶体结构生长,但HiPIMS沉积的CrN薄膜颗粒尺寸较小,柱状晶体结构和晶粒更致密。硬度测量得到HiPIMS制备的CrN薄膜显微硬度为855.9HV,而DCMS制备的CrN薄膜显微硬度为501.5HV。此外,DCMS制备的CrN薄膜平均摩擦系数为0.640,而HiPIMS制备的CrN薄膜摩擦系数为0.545,耐磨性也好。HiPIMS制备的CrN薄膜的腐蚀电流比DCMS制备的CrN薄膜低1个数量级。结论HiPIMS沉积技术制备的CrN薄膜颗粒尺寸小,结构更致密,且缺陷少、硬度高、防腐蚀性好,薄膜各项指标都优于DCMS沉积的CrN薄膜。; 李倩李花王正铎张海宝杨丽珍刘忠伟陈强; 关键词：氮化铬直流磁控溅射

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张海宝