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袁燕
作品数:
9
被引量:3
H指数:1
供职机构:
北京印刷学院
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发文基金:
北京市自然科学基金
国家重点实验室开放基金
国家自然科学基金
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相关领域:
一般工业技术
金属学及工艺
化学工程
理学
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合作作者
张海宝
北京印刷学院
陈强
北京印刷学院
王正铎
北京印刷学院
杨丽珍
北京印刷学院
桑利军
北京印刷学院
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机构
9篇
北京印刷学院
作者
9篇
袁燕
8篇
陈强
8篇
张海宝
5篇
王正铎
4篇
杨丽珍
4篇
桑利军
2篇
李花
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刘忠伟
传媒
1篇
真空科学与技...
年份
2篇
2019
4篇
2017
3篇
2016
共
9
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关于高功率脉冲磁控溅射制备ZnO薄膜的研究
作为一种半导体材料,氧化锌的两个最主要特征:直接宽禁带和高激子束缚能。这些特性使氧化锌广泛应用于光电器件、太阳能电池等等。高功率脉冲磁控溅射等离子体具有密度高、电离率高的特点,比传统直流磁控溅射有明显的优势。因此本论文利...
袁燕
关键词:
HIPIMS
ZNO
温度
文献传递
氮流量对孪生靶磁控溅射沉积氮化铬薄膜性能的影响
被引量:2
2016年
采用中频孪生靶反应磁控溅射在金属镍基底上制备氮化铬薄膜。利用X射线衍射仪、显微硬度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、磨擦磨损试验仪和电化学工作站等系统研究了氮气流量(即氮/氩流量比)对薄膜的相结构、显微硬度、表面形貌、附着力、耐磨性和耐腐蚀性的影响。结果得到随氮/氩流量比的增加,CrN_x薄膜成分经历了一个由Cr→Cr+Cr N→Cr+Cr_2N+Cr N的演化过程,薄膜形貌由致密、球状颗粒向类长方体规则形状的面心结构转化;而薄膜的表面粗糙度则呈现出在低氮时稍微下降,高氮含量时又快速增加的趋势,在N_2/Ar流量比为23/53时,粗糙度达到最小;耐磨性、硬度都呈现随着氮流量的增加先上升后下降;薄膜耐腐蚀性能随氮的加入明显得到改善。综合性能分析认为,制备2.5μm厚的氮化铬薄膜时在N_2/Ar(流量比)为23/53较为合适。
袁燕
李花
张海宝
杨丽珍
刘忠伟
陈强
关键词:
磁控溅射
高功率脉冲磁控溅射沉积氧化镁薄膜
氧化镁是良好的功能薄膜材料,绝缘、热稳定性能好、化学性质稳定,广泛应用于等离子显示屏中的介质保护膜以及功能薄膜外延生长的介质缓冲层.目前,沉积氧化镁薄膜的方法很多[1],主要包括液相的溶胶凝胶法、物理气相沉积法(电子束蒸...
张海宝
袁燕
王正铎
桑利军
杨丽珍
陈强
一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法
一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法,属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。本发明是以磁控溅射法在聚合物薄膜表面沉积金属缓冲层,然后经真空蒸镀工艺沉积铝膜,获得高附着力镀铝膜。该制备工艺主要包括以下步骤:在磁控溅射腔室...
张海宝
陈强
杨丽珍
袁燕
文献传递
一种高附着力镀铝膜
本实用新型公开了一种高附着力镀铝膜,属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。一种高附着力镀铝膜,包括镀膜基材和最外层的镀铝层,在镀膜基材和最外层的镀铝层之间有金属缓冲层,金属缓冲层的厚度为5‑50nm,镀铝层的厚度为10‑20...
张海宝
陈强
袁燕
王正铎
桑利军
文献传递
一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法
一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法,属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。本发明是以磁控溅射法在聚合物薄膜表面沉积金属缓冲层,然后经真空蒸镀工艺沉积铝膜,获得高附着力镀铝膜。该制备工艺主要包括以下步骤:在磁控溅射腔室...
张海宝
陈强
杨丽珍
袁燕
一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法
本发明公开了一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法,属于柔性包装基材薄膜技术领域。本发明的装置由放卷辊(1)、张力辊(2)、溅射室(3)、镀膜室(4)、收卷辊(5)以及辅助的水路、电路、气路系统和真空系统构成。本发明的方...
张海宝
陈强
袁燕
王正铎
桑利军
磁控溅射氮化铬硬质镀层的缺陷成因分析
氮化铬(CrNx)硬质镀层具有高硬度、高耐磨、抗腐蚀、耐高温等优良性能,在刀具刃具等领域有着广泛的应用,也可用作大面积印刷版材的表面耐磨层,它经常使用反应磁控溅射的方法来制备。然而,磁控溅射制备的大面积氮化铬镀层,往往会...
王正铎
李花
袁燕
张海宝
陈强
关键词:
磁控溅射
过渡层
偏压
一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法
本发明公开了一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法,属于柔性包装基材薄膜技术领域。本发明的装置由放卷辊(1)、张力辊(2)、溅射室(3)、镀膜室(4)、收卷辊(5)以及辅助的水路、电路、气路系统和真空系统构成。本发明的方...
张海宝
陈强
袁燕
王正铎
桑利军
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