张伟华
- 作品数：3 被引量：2H指数：1
- 供职机构：太原理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺更多>>
- 直流脉冲电泳沉积法制备TiN涂层的研究
- 2015年
- 为解决电泳沉积过程中的水分解问题,采用直流脉冲电泳沉积法制备304不锈钢负载型TiN涂层,探究涂层的形成规律,并利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)及辉光放电光谱(GDS)等检测手段对TiN涂层的形貌、物相及成分进行了表征。结果表明,采用直流脉冲电压可以减弱水电解对TiN涂层带来的负面影响;脉冲电压频率对涂层的形貌及沉积速率有重要影响,在5~30Hz频率范围,可形成较为均匀致密的TiN涂层,且TiN的沉积速率随频率的增大而逐渐减小;在TiN涂层与不锈钢基体间的界面处,各元素含量均随深度的变化呈梯度分布,有利于涂层与基体间的良好结合。本研究将为水悬浮液中电泳沉积不锈钢负载TiN涂层的制备提供理论基础。
- 钱艳红李秀燕张伟华曹铃刘瑞萍
- 关键词：氮化钛涂层不锈钢
- Ag负载对N掺杂TiO_2薄膜光催化性能的影响被引量：1
- 2016年
- 采用电泳沉积法在Ti片上制备TiN薄膜,在450℃下保温60min制备N掺杂TiO_2薄膜(N-TiO_2薄膜),然后在不同浓度的AgNO3溶液中利用光还原沉积法制备负载Ag的N-TiO_2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)对薄膜进行表征,通过测试瞬态光电流密度研究薄膜的光电性能,并以罗丹明B为降解目标物评价薄膜的光催化活性,重点研究了负载Ag对N-TiO_2薄膜光电和光催化性能的影响规律。结果表明:AgNO_3溶液浓度为0.05mol·L-1时,Ag的负载量最为适宜,N-TiO_2薄膜的光电及光催化性能最佳;负载Ag的N-TiO_2薄膜在可见光下的瞬态光电流密度约为N-TiO_2薄膜的5.4倍;负载Ag显著提高了N-TiO_2薄膜的光催化性能,经过可见光照射180min后,薄膜对罗丹明B的降解率达到98%。
- 张伟华李秀燕落全伟刘瑞萍曹铃范明明
- 关键词：氮掺杂电泳沉积光电性能光催化活性
- Ag负载对N掺杂TiO2薄膜的光电及光催化性能的影响
- 二氧化钛(TiO2)作为一种重要的光催化材料，被广泛地应用在光催化降解、光电转换、太阳能电池等领域。但纯TiO2作为光催化剂存在一些缺陷，一是TiO2的禁带宽度较大(3.2 eV)，只能被波长较短能量较高的紫外光激发。而...
- 张伟华
- 关键词：二氧化钛薄膜氮掺杂光催化性能
