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李媛芳

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学技术大学更多>>
相关领域：机械工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇离子束
  • 2篇离子束刻蚀
  • 2篇纳米
  • 2篇近场
  • 2篇刻面
  • 2篇刻蚀
  • 2篇光栅
  • 1篇等离子体
  • 1篇衍射
  • 1篇衍射光栅
  • 1篇仪器
  • 1篇软X射线
  • 1篇全息
  • 1篇线密度
  • 1篇纳米压印
  • 1篇纳米压印技术
  • 1篇激光
  • 1篇激光等离子体
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数

机构

  • 3篇中国科学技术...

作者

  • 3篇李媛芳
  • 2篇徐向东
  • 2篇刘正坤
  • 2篇邱克强
  • 2篇刘颖
  • 2篇陈火耀
  • 2篇洪义麟
  • 2篇付绍军

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2016
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种变间距光栅的近场全息‑离子束刻蚀制备方法
本发明公开了一种变间距光栅的近场全息‑离子束刻蚀制备方法，该方法利用近场全息‑离子束刻蚀技术制备高线密度变间距光栅。本发明提供的变间距光栅制备方法，与一般的全息‑离子束刻蚀光栅相比，可以简化变间距光栅的全息制作光路、降低...
刘颖李媛芳刘正坤陈火耀邱克强徐向东洪义麟付绍军
文献传递
近场全息制作软X射线衍射光栅的相关问题研究
作为光谱仪器的核心元件，各种软X射线衍射光栅在同步辐射、等离子体诊断、电子束离子阱等应用中发挥着重要作用。针对目前机械刻划和全息光刻技术制备软X射线衍射光栅中存在的问题，与电子束光刻相结合的近场全息将是一种颇具潜力的制作...
李媛芳
关键词：光谱仪器软X射线衍射光栅工艺参数
一种变间距光栅的近场全息-离子束刻蚀制备方法
本发明公开了一种变间距光栅的近场全息-离子束刻蚀制备方法，该方法利用近场全息-离子束刻蚀技术制备高线密度变间距光栅。本发明提供的变间距光栅制备方法，与一般的全息-离子束刻蚀光栅相比，可以简化变间距光栅的全息制作光路、降低...
刘颖李媛芳刘正坤陈火耀邱克强徐向东洪义麟付绍军
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