王誉
- 作品数：10 被引量：0H指数：0
- 供职机构：钢铁研究总院更多>>
- 发文基金：内蒙古自治区科技计划项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学电气工程机械工程更多>>
- 一种双硬磁主相混合稀土永磁体及其制备方法
- 本发明涉及一种双硬磁主相烧结混合稀土永磁体及其制备方法，其中，所述永磁体由双硬磁主相和富稀土相组成，两硬磁主相分别为MM<Sub>2</Sub>Fe<Sub>14</Sub>B和为(PrNd)<Sub>2</Sub>Fe...
- 朱明刚余效强李卫岳明韩瑞姜瑞姣王誉郑蒙刘卫强
- 文献传递
- 一种抗退磁功能梯度永磁材料及其制备方法
- 本发明涉及一种抗退磁功能梯度永磁材料及其制备方法，该永磁材料以铈或富铈永磁合金为基体磁体，在基体磁体表面有重稀土金属镝或铽作为扩散源形成的镝或铽涂覆层；该永磁材料通过扩散源涂覆和真空下热处理制备，在最终产品中，从与扩散源...
- 朱明刚宋利伟刘涛王欣张乐乐王誉石晓宁李卫
- 文献传递
- 一种有碳纤维防护膜的稀土永磁体及其制备方法
- 本发明涉及一种有碳纤维防护膜的稀土永磁体及制备方法，该永磁体包括块状磁体和固化在块状磁体表面的碳纤维膜，该碳纤维膜具有第一碳纤维层和第二碳纤维层，第一碳纤维层为含树脂浸渍料的碳纤维薄膜，第二碳纤维层为含树脂浸渍料的碳纤维...
- 朱明刚王誉左敬燕王伟东张乐乐郭英健李卫
- 一种剩磁梯度分布可控的钕铁硼永磁材料及其制备方法
- 本发明属于磁性材料领域，特别涉及一种剩磁梯度分布可控的钕铁硼永磁材料及其制备方法。该钕铁硼永磁材料的化学成分按质量百分比表示为：Nd 28‑30％、Ga 0.3‑0.7％、Co 4‑6％、B 0.8‑1.2％，Al 0....
- 朱明刚靖征李卫郭朝晖左志军李梦玉姜瑞姣王誉
- 文献传递
- 辐射取向整体Nd-Fe-B永磁环的研究现状及发展
- 2022年
- 辐射取向整体Nd-Fe-B永磁环是一类特殊取向的稀土永磁体,该类磁体可通过辐射充磁或径向多极充磁制备辐射磁环或多级磁环,达到简化电磁耦合器件组装、改善电机特性的目的。辐射取向整体Nd-Fe-B永磁环在无刷直流电动机、陀螺仪、磁传感器、线性驱动器和闭锁装置等应用方面都有着非常广阔的市场前景。文章介绍了永磁环的主要分类及应用,综述了辐射取向整体Nd-Fe-B永磁环常用的制备方法以及应用现状,指出了该类材料在研究过程中存在的问题,展望了辐射取向整体Nd-Fe-B永磁环的发展前景。
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- 关键词：钕铁硼永磁体永磁环稀土永磁体
- 一种剩磁梯度分布可控的钕铁硼永磁材料及其制备方法
- 本发明属于磁性材料领域，特别涉及一种剩磁梯度分布可控的钕铁硼永磁材料及其制备方法。该钕铁硼永磁材料的化学成分按质量百分比表示为：Nd 28‑30％、Ga 0.3‑0.7％、Co 4‑6％、B 0.8‑1.2％，Al 0....
- 朱明刚靖征李卫郭朝晖左志军李梦玉姜瑞姣王誉
- 基于磁粉纹法与Ansoft-Maxwell模拟法快速探究平面阴极靶的磁场分布
- 2024年
- 利用磁粉纹法结合少量的磁场实测值确定了平面阴极靶内永磁体的位置、分布及尺寸,结合阴极靶的其他主要结构参数,进一步建立了阴极靶的磁场计算模型。利用Ansoft-Maxwell软件模拟了该阴极靶整体、重要截面、重要路径的磁场大小和磁场矢量的分布及其变化规律,利用高斯计实测了靶材表面重要路径不同方向上的磁场分量。通过模拟值与实测值的对比表明:模拟计算出的靶面磁场与实测磁场的误差在5%以内,进一步说明利用磁粉纹法结合磁场模拟的方式可以较为准确和快速地预测未知平面磁控溅射阴极靶的磁场分布。
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- 关键词：磁场分布仿真模拟
- 一种双硬磁主相混合稀土永磁体及其制备方法
- 本发明涉及一种双硬磁主相烧结混合稀土永磁体及其制备方法，其中，所述永磁体由双硬磁主相和富稀土相组成，两硬磁主相分别为MM<Sub>2</Sub>Fe<Sub>14</Sub>B和为(PrNd)<Sub>2</Sub>Fe...
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- 一种抗退磁功能梯度永磁材料及其制备方法
- 本发明涉及一种抗退磁功能梯度永磁材料及其制备方法，该永磁材料以铈或富铈永磁合金为基体磁体，在基体磁体表面有重稀土金属镝或铽作为扩散源形成的镝或铽涂覆层；该永磁材料通过扩散源涂覆和真空下热处理制备，在最终产品中，从与扩散源...
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- 直流磁控溅射膜厚分布实测与数值模拟研究
- 2022年
- 基于直流磁控溅射的基本原理,通过对小圆形磁控溅射平面靶的特点分析,建立了磁控溅射系统的几何模型,推导出了膜厚分布的数学理论模型。借助MATLAB数学软件,计算了不同靶基距下膜厚分布的理论数据,分析了靶基距变化时膜厚分布的特点。实测了两种不同靶基距下膜厚的分布,通过与理论数据的对比,验证了模型的可靠性。理论模型与实测数据的分析表明:随着靶基距的逐渐增大,膜厚的变化率减缓,膜层的平均厚度降低,膜厚分布的均匀性提高;在靶基距一定的情况下,增宽靶材的刻蚀区域会提高膜层厚度及其均匀性;基板上的膜厚分布大致呈现从中心到边缘逐渐变薄的趋势,膜层最厚的位置随着靶基距的增大,从靶材刻蚀最深处在基板上的投影位置,逐渐向基板中心转移。
- 王誉王誉辛博辛博娄树普
- 关键词：磁控溅射
