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齐晶

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：浙江大学电气工程学院超大规模集成电路设计研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇图形法
  • 1篇可制造性
  • 1篇可制造性设计
  • 1篇光刻
  • 1篇光学邻近校正
  • 1篇分辨率

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇史峥
  • 1篇罗凯升
  • 1篇林斌
  • 1篇齐晶

传媒

  • 1篇华东理工大学...

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
使用测试图形法优化亚分辨率辅助图形
2012年
在亚波长光刻领域,基于规则插入亚分辨率辅助图形是一种重要的技术。现有的方法需要利用经验改善亚分辨率辅助图形,且不考虑光学邻近校正的效果。提出了一种新的利用测试图形优化亚分辨率辅助图形的方法。与一般的光学邻近校正流程结合,该方法能解决工艺窗口过小和亚分辨率辅助图形刻出等问题。通过对标准电路版图的测试,对边放置误差和工艺窗口进行了测量。边放置误差相比传统方法减小了10%,同时,不同工艺窗条件下的边放置误差也有改善。
齐晶史峥林斌罗凯升
关键词：可制造性设计光刻光学邻近校正
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