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高振杰

作品数:4 被引量:4H指数:1
供职机构:广东工业大学材料与能源学院更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇溅射
  • 4篇磁控
  • 3篇射频磁控
  • 3篇溅射法
  • 3篇溅射法制备
  • 3篇发光
  • 2篇禁带
  • 2篇光性质
  • 2篇发光性
  • 2篇发光性质
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇氧化锌薄膜
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇禁带宽度
  • 1篇宽禁带
  • 1篇化合物半导体
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光研究
  • 1篇半导体

机构

  • 4篇广东工业大学

作者

  • 4篇高振杰
  • 3篇杨元政
  • 3篇谢致薇
  • 3篇王彦利
  • 1篇陈先朝
  • 1篇何玉定

传媒

  • 1篇发光学报
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇中国材料科技...

年份

  • 4篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
氧氩比和热处理对ZnO:Eu^3+薄膜的结构及其发光性质的影响
2011年
用射频磁控溅射法在石英衬底上制备了ZnO:Eu^3+薄膜,通过X射线衍射仪和荧光光谱仪对样品进行了表征,考察了氧氩比和退火工艺对其结构及发光性能的影响。结果表明:样品均呈现ZnO的六角纤锌矿结构,适当的氧氩比有利于ZnO的C轴择优取向的形成,高温退火会使晶粒尺寸增大;合适的氧氩比,尤其是退火工艺(700℃)可以促进ZnO基质(372nm)到Eu^3+离子(^5Do-^7F2)之间的能量传递,但过多的氧及高温退火不利于稀土Eu^3+离子465nm(^7Fo-^5D2)到611nm(^5Do-^7F2)的直接能量传递。
高振杰杨元政王彦利谢致薇
关键词:磁控溅射光致发光
射频磁控溅射法制备的Eu掺杂ZnO薄膜的结构及其发光性质被引量:3
2011年
用射频磁控溅射法在石英衬底上制备了ZnO∶Eu3+薄膜,通过X射线衍射仪﹑扫描电子显微镜和荧光光谱仪测试了薄膜结构﹑形貌以及发光性能,重点考察了溅射功率和退火工艺对其组织结构和发光性能的影响。结果表明:样品均呈现ZnO的六角纤锌矿结构,增大溅射功率有利于形成ZnO的c轴择优取向;增大溅射功率以及高温退火会使晶粒尺寸增大;观察到稀土元素内部4f壳层的电子跃迁以及从ZnO基质到Eu3+离子之间的能量传递现象,增大溅射功率以及780℃退火能提高ZnO∶Eu3+薄膜的发光特性。
高振杰杨元政谢致薇王彦利
射频磁控溅射法制备Zn_(1-x)Mg_xO薄膜及其性能的研究被引量:1
2011年
本文通过在ZnO靶材上放置高纯Mg片,运用射频磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备了Zn1-xMgxO(x=0.1,0.16,0.18,0.24)薄膜。用X射线衍射仪、扫描电镜、紫外-可见-分光光度计等研究了Zn1-x MgxO薄膜的组织结构和性能。结果表明:Zn1-xMgxO薄膜呈ZnO的纤锌矿结构,在ZnO晶格中Mg2+有效地替代了Zn2+。样品表面比较平整,颗粒均匀致密,薄膜质量较高,且在可见光范围内光透过率均为90%左右,具有极好的透光性;此外,随着Mg掺入量的增多,Zn1-xMgxO薄膜的吸收边出现蓝移现象,实现了对禁带宽度的调节。
王彦利杨元政高振杰谢致薇陈先朝何玉定
关键词:射频磁控溅射禁带宽度
射频磁控溅射法制备ZnO:Eu3+薄膜及其发光研究
近年来,稀土(Rare Earth)掺杂化合物半导体由于其在光电领域的应用受到人们极大地关注。稀土元素的4f电子被外部5s25p6电子屏蔽,受到基质晶体场的作用较小,f-f跃迁发射呈特征锐线状光谱。其中,稀土Eu3+的5...
高振杰
关键词:氧化锌薄膜
文献传递
共1页<1>
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