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石雅婷

作品数:25 被引量:2H指数:1
供职机构:华中科技大学更多>>
发文基金:中国博士后科学基金国家重大科学仪器设备开发专项国家自然科学基金更多>>
相关领域:机械工程自动化与计算机技术理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 20篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇机械工程
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇医药卫生
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇文化科学

主题

  • 9篇光学
  • 6篇套刻
  • 6篇光刻
  • 6篇光学常数
  • 4篇矩阵
  • 3篇光学测量
  • 3篇半导体
  • 2篇对角线
  • 2篇多目标
  • 2篇多目标算法
  • 2篇形貌
  • 2篇形貌结构
  • 2篇仪器系统
  • 2篇优化配置
  • 2篇原位表征
  • 2篇圆偏振
  • 2篇圆偏振光
  • 2篇展开式
  • 2篇神经网
  • 2篇神经网络

机构

  • 25篇华中科技大学
  • 1篇湖北工业大学

作者

  • 25篇石雅婷
  • 22篇刘世元
  • 20篇陈修国
  • 8篇张传维
  • 6篇王鹏
  • 5篇江浩
  • 4篇张劲松
  • 4篇董正琼
  • 3篇谷洪刚
  • 2篇陈超
  • 2篇朱金龙
  • 2篇谭寅寅
  • 1篇董正琼

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇红外与毫米波...

年份

  • 4篇2021
  • 6篇2020
  • 4篇2019
  • 2篇2018
  • 2篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2007
25 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种紧凑型滚转角传感器装置及测量方法
本发明属于光电检测与测量领域,并具体公开了一种紧凑型滚转角传感器装置及测量方法,包括线偏振光产生模块、传感模块和集成检测模块,线偏振产生模块包括激光器和线偏振器,传感模块包括波片,波片与待测旋转元件相连并同步转动,集成检...
陈修国陶泽刘世元石雅婷陈超江浩张传维
文献传递
快照式穆勒矩阵椭偏仪相位延迟量误差的通用校准方法
本发明属于精密光学测量仪器系统参数校准领域,并具体公开了一种快照式穆勒矩阵椭偏仪相位延迟量误差的通用校准方法,其包括如下步骤:S1、按预设相位延迟器厚度比搭建快照式穆勒矩阵椭偏仪,然后对三组标准样品进行测量,得到三组测量...
陈修国王鹏张劲松石雅婷刘世元
文献传递
Asoprisnil及其衍生物的合成与孕酮拮抗活性研究
石雅婷
一种紧凑型滚转角传感器装置及测量方法
本发明属于光电检测与测量领域,并具体公开了一种紧凑型滚转角传感器装置及测量方法,包括线偏振光产生模块、传感模块和集成检测模块,线偏振产生模块包括激光器和线偏振器,传感模块包括波片,波片与待测旋转元件相连并同步转动,集成检...
陈修国陶泽刘世元石雅婷陈超江浩张传维
文献传递
基于灵敏度与线性相关分析的光学散射测量条件优化配置
纳米结构的光学散射测量主要由两个关键技术支撑,即正向光学特性建模和几何参数逆向提取[1].其中,正向求解是指依据已知的光学入射条件和几何参数尺寸,采用电磁场建模理论获得仿真光谱数据的过程;反向几何参数求解则是指运用库匹配...
董正琼陈修国石雅婷张传维刘世元
光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法
本发明公开了一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法,可以对IC制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参数进行非接触、非破坏的测量。首先,通过仿真分析的手段,选出最优测量配置与最优等效介质模型;其次,将上述仿...
刘世元石雅婷陈修国张传维
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基于灵敏度分析的一维纳米结构光学散射测量条件优化配置被引量:2
2016年
在光学散射测量中,除了实际测量光谱的质量外,模型的输出光谱对待测纳米结构参数的灵敏度也对最终测量结果的精度具有重大影响.由于不同的测量配置(入射波长、入射角和方位角的组合)下,纳米结构参数的灵敏度会不同,因此提出了一种基于灵敏度分析的测量条件优化配置方法来改善待测参数的灵敏度,以实现更高精度的纳米结构测量.实验表明,在理论预估的最优测量配置下,一维纳米结构所有待测参数的测量精确最优,验证了其有效性.
董正琼刘世元陈修国石雅婷张传维江浩
关键词:灵敏度
一种电磁散射建模中分离可变参数的快速算法
本发明属于光学测量相关技术领域,其公开了一种电磁散射建模中分离可变参数的快速算法,其包括以下步骤:(1)根据电磁散射建模的对象来确定包含可变参数的算子及参数域;(2)将所述参数域离散为采样点数目递增的N重采样网格,其中N...
陈修国石雅婷刘世元陶泽谭寅寅
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一种套刻标记形貌和测量条件优化方法
本发明公开了一种套刻标记形貌和测量条件优化方法,属于光刻领域。首先,根据光刻工艺确定套刻标记形貌结构和材料光学常数。其次,通过解析或数值的建模方法可计算套刻光学表征曲线。然后,根据泰勒公式得到套刻测量重复性精度和准确度的...
石雅婷李旷逸陈修国刘世元
文献传递
一种薄吸收膜的光学常数与厚度的测量装置及方法
本发明属于光学测量相关技术领域,其公开了薄吸收膜的光学常数与厚度的测量装置及方法,该测量装置包括集成于一体的椭偏参数测量模块与反射率测量模块,所述椭偏参数测量模块与所述反射率测量模块相对设置,且所述椭偏参数测量模块得到的...
江浩刘佳敏刘世元谷洪刚石雅婷张传维陈修国
文献传递
共3页<123>
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