张金林
- 作品数：16 被引量：23H指数：3
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- 一种硅薄膜表面减反射结构的制备方法
- 一种硅薄膜表面减反射结构的制备方法为；1、硅薄膜制备：首先将纯度99.9999%的硅靶、纯度99.999%的银靶和廉价硅片基体依次装入真空室中，然后将真空室抽真空，之后向真空室通入氩气，最后在所述基体上沉积厚度为0.3~...
- 贺春林杨雪飞张金林王建明才庆魁
- 文献传递
- 基体温度对磁控溅射TiN薄膜结构与力学性能的影响被引量：7
- 2012年
- 采用直流反应磁控溅射方法在304不锈钢表面沉积TiN薄膜.利用场发射扫描电镜、X射线衍射仪和纳米压痕仪研究基体温度对TiN薄膜结构与性能的影响.结果表明:TiN薄膜为柱状结构,表面平整、致密.薄膜为面心立方结构(fcc)TiN并存在择优取向,室温和150℃时薄膜为(111)晶面择优取向,300和450℃时薄膜为(200)晶面择优取向;室温时薄膜厚度仅为0.63μm,加温到150℃后膜厚增加到1μm左右,但继续加温对膜厚影响不明显;平均晶粒尺寸随着基体温度的升高略有上升;薄膜的硬度、弹性模量和韧性(H3/E*2)随基体温度的升高而增加,最值分别达到25.4,289.4和0.1744GPa.
- 张金林贺春林王建明才庆魁
- 关键词：反应磁控溅射TIN微结构机械性能
- 一种氮化钛/镍纳米多层薄膜的制备方法
- 一种氮化钛/镍纳米多层薄膜的制备方法，涉及陶瓷/金属纳米多层薄膜制备方法，包括以下制备步骤：选用钢材为基体，基体表面经砂纸研磨并抛光后，分别用丙酮、酒精和去离子水超声波清洗、烘干后装入真空室；用直流反应磁控共溅射镀膜系统...
- 贺春林张金林王建明刘岩马国峰李海松娄德元杨雪飞才庆魁
- 一种氮化钛/氮化铝/镍纳米多层薄膜的制备方法
- 一种氮化钛/氮化铝/镍纳米多层薄膜的制备方法，涉及一种陶瓷/陶瓷/金属纳米多层薄膜的制备方法，包括以下步骤：选钢材作为基体，基体表面研磨并抛光后，用超声波清洗，烘干后镀膜；沉积多层薄膜前先将真空室抽真空，然后通入高纯氩气...
- 贺春林张金林王建明刘岩马国峰李海松娄德元杨雪飞白莹莹才庆魁
- 一种耐磨耐高温氧化NiCr-Cr<Sub>3</Sub>C<Sub>2</Sub>金属陶瓷涂层的制备方法
- 一种耐磨耐高温氧化NiCr-Cr<Sub>3</Sub>C<Sub>2</Sub>金属陶瓷涂层的制备方法，其制备方法为：1、配方；2、激光熔覆制备方法，3、热处理工艺。本发明制得的金属陶瓷涂层以镍基固溶体为粘结剂，以Cr...
- 贺春林娄德元才庆魁马国峰李海松张金林
- 文献传递
- 反应溅射TiN纳米晶薄膜的结构特征和耐蚀性
- 2015年
- 利用直流反应溅射技术在不锈钢和硅基体上沉积了TiN纳米晶薄膜,采用场发射扫描电镜(FESEM)、X射线衍射(XRD)和电化学阻抗谱(EIS)技术研究了薄膜的表面形貌、相结构和耐蚀性与偏压的关系。结果表明,TiN薄膜的表面结构明显取决于所施加的偏压,适当提高偏压有利于获得细小、均匀、致密和光滑的膜层。XRD分析发现,TiN薄膜为面心立方结构,其择优取向为(111)面。实验显示,对应0V和-35V偏压的薄膜为欠化学计量比的,而偏压增加至-70V和-105V时的薄膜为化学计量比的TiN。EIS结果表明,较高偏压下的TiN薄膜几乎在整个频率范围内均表现为容抗特征,其阻抗模值明显高于低偏压下的膜层,这主要与较高偏压下的薄膜具有相对致密的微结构有关。较低偏压的TiN薄膜因结构缺陷较多其耐蚀性低于基体不锈钢。EIS所揭示的薄膜结构特征与FESEM观测结果一致。可见,减少穿膜针孔等结构缺陷有利于改善反应溅射TiN纳米晶薄膜耐蚀性。
- 曲彬张金林贺春林
- 关键词：TIN纳米晶薄膜反应溅射微结构耐蚀性
- 磁控溅射(Ti,Al)N纳米晶薄膜的结构和性能
- 2015年
- 通过在N2气氛和600℃基体温度下交替溅射Ti和Al靶并通过沉积过程中Ti和Al原子间的互扩散制备了(Ti,Al)N纳米晶薄膜.采用场发射扫描电镜、X射线衍射和纳米压痕技术研究了薄膜的微结构和力学性能.结果表明,(Ti,Al)N膜具有细小、致密和光滑的表面结构.在交替沉积过程中Ti原子会被较小的Al原子取代,形成面心立方结构的(Ti,Al)N薄膜,并存在(200)面择优取向.与TiN薄膜相比,(Ti,Al)N薄膜的晶粒尺寸和晶格常数均有所下降;(Ti,Al)N薄膜的硬度H明显提高,而弹性模量E却稍有降低,其结果使H3/E2比值大幅提高,薄膜的抗塑性变形能力增强.(Ti,Al)N纳米晶薄膜的高性能主要归因于固溶强化机制.
- 贺春林高建君张金林王苓飞李蕊解磊鹏马国峰王建明
- 关键词：(TI,AL)N纳米晶薄膜反应溅射微结构力学性能
- 304不锈钢磁控溅射TiN_x薄膜不同偏压时的结构和耐蚀性能被引量：2
- 2015年
- 基体偏压是影响磁控溅射TiNx薄膜结构和性能的关键因素,且TiNx薄膜的结构与其耐蚀性有极大的关系。利用直流反应磁控溅射技术,通过改变基体偏压在304不锈钢表面制备了具有结构缺陷和不同化学计量比的TiNx薄膜。采用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、电化学技术研究了TiNx薄膜的表面形貌、相结构和耐蚀性与偏压的关系。结果表明:TiNx薄膜的表面结构与偏压明显相关,适当的偏压有利于获得细小、均匀、致密和光滑的TiNx薄膜;TiNx薄膜为B1-NaCl型面心立方结构,其择优取向为(111)面,增加偏压有利于获得符合化学计量比的TiNx薄膜;致密、光滑和符合化学计量比的TiNx薄膜具有更低的腐蚀倾向;不同化学计量比的TiNx薄膜的腐蚀均为局部剥离,且与该处高密度结构缺陷相关;减少TiNx薄膜的针孔等结构缺陷对于提高其耐蚀性极为重要。
- 曲彬张金林贺春林
- 关键词：磁控溅射偏压耐蚀性
- Cu-TiO_2纳米复合镀层的腐蚀和光催化性能被引量：3
- 2012年
- 采用纳米复合镀技术在铝表面制备了Cu-TiO2纳米复合镀层,利用扫描电镜、电化学测试系统、分光光度计对其形貌、腐蚀和光催化性能进行了研究.结果表明,TiO2纳米颗粒在铜基复合膜层中的分散均匀;TiO2颗粒的加入可使Cu-TiO2纳米复合镀层腐蚀电位明显增加,膜层的耐蚀性提高;在紫外光照射下,复合镀层对甲基橙溶液有明显的光催化降解作用,且这种作用随时间延长而有所增大.
- 贺春林李海松张金林杨雪飞王建明才庆魁
- 关键词：TIO2纳米颗粒纳米复合材料耐蚀性
- 磁控溅射沉积TiN薄膜工艺优化被引量：5
- 2014年
- 磁控溅射TiN薄膜的力学和腐蚀性能与薄膜的结构密切相关,而其结构又取决于薄膜的制备工艺.采用正交实验方法对影响TiN薄膜结构和性能的重要参数如电流、负偏压、氮流量和基体温度等进行优化,以期获得更优的制备工艺条件.实验结果显示,其对TiN薄膜纳米硬度影响由大到小的次序为:基体温度>负偏压>电流>氮流量;对膜/基结合力的影响由大到小的顺序为:基体温度>氮流量>电流>负偏压.综合考虑TiN薄膜的纳米硬度和膜/基结合力,获得的最优方案为:基体温度300℃,电流0.2A,负偏压-85V,标准状态下氮流量4mL/min.
- 贺春林朱跃长张金林马国峰王建明
- 关键词：正交设计TIN薄膜磁控溅射结合力
