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张太平

作品数:7 被引量:47H指数:4
供职机构:北京大学信息科学技术学院微电子研究院更多>>
发文基金:北京市教育委员会共建项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信核科学技术航空宇航科学技术更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇核科学技术
  • 1篇航空宇航科学...

主题

  • 3篇二极管
  • 2篇量子效率
  • 2篇光电
  • 2篇光电二极管
  • 2篇PIN
  • 2篇
  • 1篇电容
  • 1篇噪声
  • 1篇少子寿命
  • 1篇探测器
  • 1篇欧姆接触
  • 1篇欧姆接触特性
  • 1篇平面型
  • 1篇紫外
  • 1篇离子注入
  • 1篇漏电
  • 1篇漏电流
  • 1篇接触特性
  • 1篇结电容
  • 1篇光谱响应

机构

  • 7篇北京大学
  • 2篇中国原子能科...

作者

  • 7篇张太平
  • 5篇张录
  • 5篇田大宇
  • 4篇宁宝俊
  • 2篇陈鸿飞
  • 2篇张锦文
  • 2篇武国英
  • 2篇王玮
  • 2篇邹积清
  • 1篇刘诗美
  • 1篇李成波
  • 1篇施伟红
  • 1篇周书华
  • 1篇邹鸿
  • 1篇郭昭乔
  • 1篇张洁天
  • 1篇王玮
  • 1篇孟秋英
  • 1篇袁坚
  • 1篇闫桂珍

传媒

  • 4篇Journa...
  • 1篇核技术
  • 1篇核电子学与探...

年份

  • 2篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2002
  • 2篇2001
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
紫外和蓝光区域硅PIN光电二极管被引量:7
2002年
描述了采用离子注入、低温慢降温热处理和背面磷吸杂等方法在高阻 (111) N型硅片上研制高性能 PIN光电二极管的工艺技术 ,测量并分析了光电二极管的 I- V、C- V和光灵敏度等性能 .有源区面积为 16 mm× 17mm的二极管样品在全耗尽偏置电压下 (Vd=70 V) ,环境温度为 2 5℃时的暗电流和端电容典型值分别达到≤ 5 n A和≤ 12 0 p F.探测器在波长区域 (380~ 5 0 0 nm )的光谱响应典型值 :4 0 0 nm为 0 .2 6 A/ W,5 0 0 nm为 0 .33A / W.量子效率在 4 0 0~90 0 nm光谱范围内达到 70 %~ 80 % .对于紫外光至蓝光区域 。
宁宝俊张太平张录田大宇
关键词:PIN光电二极管暗电流光谱响应紫外
平面型硅光电二极管PIN的研制及其基本性能测试被引量:2
2006年
为满足CERN/ALICE超高能重离子对撞实验光子谱仪的需要,首次采用高阻硅材料,并利用一些特殊工艺,研制了用于钨酸铅晶体探测器读出单元的硅光电二极管PIN。PIN的灵敏区面积为16mm×17mm,常温漏电流小于5nA,紫光区量子效率82%,全耗尽结电容为110—120pF。由PIN与电荷灵敏前置放大器组成的读出系统的噪声水平,在-25℃下小于600个等效噪声电荷,并经过了长期性能稳定性的考验。开发研制的大面积PIN硅光管全面达到ALICE/PHOS国际招标所规定PIN硅光管性能的指标。
李成波袁坚孟秋英周书华张录张太平宁宝俊田大宇
关键词:PIN结电容漏电流量子效率
离子注入PIN辐射探测器的测试分析被引量:4
2005年
利用先进的微电子、微机械加工技术,研制了从300~1000μm共5种厚度的离子注入型PIN辐射探测器,选择其中300 、450和1000μm三种规格进行漏电流、噪声水平和能谱分辨率等指标的测试,并与ORTEC探测器相比较.结果表明:北京大学研制的PIN探测器具有当前国际先进水平.在平均25.7℃下,漏电流在14nA左右,噪声水平约为7.4 keV,能谱分辨率约为16.9 keV.由于噪声水平较ORTEC探测器低,说明还有提高能谱分辨率的余地.
陈鸿飞邹积清田大宇张太平宁宝俊张录
关键词:噪声分辨率
PIN探测器及配套ASIC成果介绍
本文简单介绍了北京大学最近几年研制成功的硅PIN结构的光探测器、带电粒子探测器及位置测量探测器
田大宇陈中建张太平宁宝俊张录陈鸿飞邹鸿施伟红邹积清
关键词:PIN探测器量子效率
文献传递
平面工艺辐射探测器的研制被引量:3
2001年
使用高阻 Si材料 ,通过氧化、光刻、注入和退火工艺技术研制粒子探测器—— PIN二极管 .采取 HCl氧化、慢降温等工艺措施可减小 PIN二极管的暗电流 (反向电流 ) ,这对于提高器件性能起到了关键作用 .电压为 - 5 V时 ,探测器的暗电流可达 n A/ cm2 量级 .
张太平张录宁宝俊田大宇刘诗美王玮张洁天郭昭乔陈世媛
关键词:PIN二极管少子寿命辐射探测器
Au-AlGaN/GaN HFET研制与器件特性被引量:20
2002年
报道了栅长为 1.5 μm Au- Al Ga N/ Ga N HFET器件的研制和器件的室温特性测试结果 .同时 ,研究了器件经30 0℃、30 min热处理对器件性能的影响 ,并对比了热处理前后器件的室温特性 .实验证明 :室温下 ,器件具有良好的输出特性和肖特基结伏安特性 ,反向漏电流较小 ,最大跨导可达 47m S/ mm;经过 30 0℃、30 m in热处理后器件的室温输出特性有显著改善 ,而且器件饱和压降明显降低 ,说明 30
张锦文闫桂珍张太平王玮宁宝俊武国英
关键词:ALGAN/GANHFET
Ti/Al/Ti/Au与AlGaN欧姆接触特性被引量:12
2001年
研究了溅射 Ti/ Al/ Ti/ Au四层复合金属与 Al Ga N / Ga N的欧姆接触特性 ,并就环境温度对欧姆接触特性的影响进行了分析研究 .试验证实 :溅射的 Ti/ Al/ Ti/ Au与载流子浓度为 2 .2 4× 10 1 8cm- 3的 Al Ga N之间在室温下无需退火即可形成欧姆接触 .随快速退火温度的升高接触电阻降低 .快速退火时间 30 s已可实现该温度下最佳欧姆接触 .当工作温度不高于 30
张锦文张太平王玮宁宝俊武国英
关键词:ALGAN欧姆接触半导体材料
共1页<1>
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