您的位置： 专家智库 > >

薄昌忠

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：武汉大学物理科学与技术学院更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇电子背散射衍...
  • 1篇EBSD

机构

  • 1篇武汉大学

作者

  • 1篇任峰
  • 1篇卢卓宇
  • 1篇范丽霞
  • 1篇付强
  • 1篇薄昌忠

传媒

  • 1篇武汉理工大学...

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
EBSD在InGaAsP／InP异质结构弹性应力区域的研究被引量：1
2007年
利用扫描电镜附件电子背散射衍射（Electron Backscattering Diffraction，EBSD）技术，用菊池花样质量（IQ）作为应力敏感参数，研究了InGaAsP／InP异质结构缓冲层和外延层界面处的应力分布。
范丽霞卢卓宇任峰薄昌忠付强
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0