2024年8月25日
星期日
|
欢迎来到贵州省图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
张超
作品数:
1
被引量:0
H指数:0
供职机构:
河北工业大学
更多>>
相关领域:
电子电信
更多>>
合作作者
甘小伟
河北工业大学
刘玉岭
河北工业大学
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
电子电信
主题
1篇
溶胶
1篇
水溶胶
1篇
离子
1篇
离子交换
1篇
硅溶胶
1篇
PH值
1篇
SIO
1篇
ZETA电位
机构
1篇
河北工业大学
作者
1篇
刘玉岭
1篇
张超
1篇
甘小伟
传媒
1篇
微纳电子技术
年份
1篇
2013
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
CMP浆料SiO_2水溶胶纯化稳定性技术的研究
2013年
介绍了CMP浆料SiO2水溶胶的Na+含量过高对集成电路可靠性的影响,讨论了硅溶胶纯化制备过程中容易凝胶的不稳定现象。中试实验中,采用阳离子交换的方法,去除Na+等金属离子。改变SiO2水溶胶pH值,测量其Zeta电位,得到最稳定SiO2水溶胶pH值在10左右。分析一次阳离子交换和两次阳离子交换过程,得到Na+浓度、pH值和Zeta电位变化规律。加入有机碱调节pH值,并起到螯合金属离子的作用。最后得到Na+浓度为1×10-6~2×10-6 mol/L、pH值在10~10.5、Zeta电位在-40~-45 mV的稳定碱性硅溶胶。为碱性CMP浆料SiO2水溶胶工业化纯化制备生产提供了理论依据。
张超
刘玉岭
甘小伟
关键词:
硅溶胶
离子交换
PH值
ZETA电位
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张