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不同组合频率下使用大气压冷等离子体射流(APPJ)沉积氧化硅薄膜: 近年来，大气压冷等离子体射流（APPJ）沉积薄膜的技术越来越受到人们的关注，因为放电装置的优点是成本低，不需要昂贵的真空设备，操作简单，有利于连续化的生产加工和小型化便携式的使用，因此具有广泛的应用前景，成为国际上低温等...; 常小伟; 关键词：低温等离子体氧化硅薄膜组合频率辉光放电; 文献传递

Ar/SiCl4大气压等离子体射流沉积SiO2薄膜: 2016年; 以氩气为携带气体,SiCl4为源材料,使用双频(50kHz/33 MHz)组合功率源大气压等离子体射流(APPJ)装置,以空气中的氧气作为氧化物质沉积SiO2薄膜.用发射光谱检测等离子体组成物种,并研究了随源材料(SiCl4)含量的不同,体系内各主要物种的变化情况并以此得到较优的沉积条件.分别用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)以及傅里叶红外光谱(FT-IR)对所沉积薄膜的形貌、化学成分和化学结构进行检测.XPS表明薄膜主要组成元素为Si、O以及少量的Cl.FT-IR显示薄膜化学结构主要为Si-O-Si和Si-OH键.; 袁强华常小伟李娇娇殷桂琴; 关键词：SIO2薄膜

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常小伟