吴小丽
- 作品数：5 被引量：3H指数：1
- 供职机构：华中光电技术研究所更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 靶压对磁控溅射GeC薄膜折射率的影响被引量：2
- 2009年
- 采用磁控溅射技术,以碳氢气体和氩气为工作气体,在Ge基底上制备了GeC薄膜。研究了靶压对薄膜折射率的影响,发现在较高的靶压下制备的GeC薄膜具有较低的折射率,而在较低的靶压下则得到了高折射率的薄膜。通过控制溅射靶压,制备了折射率在2.5～3.8之间可变的GeC薄膜。利用拉曼光谱研究了GeC薄膜的结构。薄膜样品的硬度测试表明,较低折射率的GeC薄膜具有较高的硬度。
- 何光宗熊长新李钱陶吴小丽
- 关键词：磁控溅射折射率
- 常温溅射DLC膜的工艺研究
- 2009年
- 常温下,采用磁控溅射技术成功地在Ge基底上制备了类金刚石膜,并研究了溅射功率、碳氢气体与氩气流量比、溅射频率、基底负偏压等工艺参数对类金刚石膜沉积速率的影响和薄膜的光学性能。结果表明:溅射功率、溅射频率、碳氢气体与氩气流量比对沉积速率有显著的影响。沉积速率随着溅射功率的增大而增大,随着溅射频率的减小而增大。随着碳氢气体与氩气流量比、基底负偏压的增大沉积速率先增大后降低。制备的类金刚石膜具有较宽的光谱透明区,Ge基底单面沉积的类金刚石膜其峰值透过率最高达到63.99%。
- 吴小丽熊长新李钱陶何光宗
- 关键词：磁控溅射类金刚石膜沉积速率透过率
- 基于凸面光栅的Offner型编码孔径多光谱成像光学系统设计被引量：1
- 2019年
- 基于Offner型同心结构特点,设计了一种工作波段范围3.0~5.0μm,F/4的双通道中波红外编码孔径多光谱成像系统,该系统由望远物镜和Offner型分光系统组成,其中Offner型分光系统采用一个凸面光栅和一个球面反射镜实现了编码孔径系统的分光和合光。根据探测器和数字微晶阵列的参数,对系统各主要光学参数进行合理选取,最终确定凸面光栅的曲率半径为150 mm,周期30μm。整个系统在全视场的弥散斑控制在20μm以内,小于探测器像元大小,满足像质要求。
- 吴小丽杨晓燕余徽
- 关键词：光学设计成像光谱仪凸面光栅
- 一种锗基底红外双波段保护膜
- 根据GeC薄膜折射率可调的特点,在Ge基底上设计了一种红外双波段保护膜。采用磁控溅射技术,在Ge基底上沉积了不同折射率的GeC薄膜以及DLC膜和红外双波段保护膜。利用红外光谱仪测试了样品的红外透射光谱,利用偏光显微镜和显...
- 何光宗熊长新李钱陶吴小丽
- 关键词：双波段保护膜磁控溅射
- 文献传递
- ZnS基底红外双波段保护膜研究
- 采用磁控溅射技术,在ZnS基底上沉积了GeC/DLC构成的红外双波段（3.7～4.8um和7.7～10.3um）保护膜。利用红外光谱仪测试了样品的红外透射光谱,双面镀膜样品在3.7～4.8um和7.7～10.3um波段范...
- 吴小丽熊长新李钱陶何光宗
- 关键词：双波段ZNS磁控溅射
- 文献传递
