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包飞军
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
供职机构:
东华大学理学院
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相关领域:
理学
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合作作者
黄海燕
东华大学理学院
徐晓峰
东华大学理学院
余远春
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1篇
2013
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溅射氧化耦合法合成W掺杂VO_2纳米薄膜及其光学性质
被引量:1
2013年
采用溅射氧化耦合法(SOC),在Al2O3(001)基底上成功制备了纳米尺度的W掺杂VO2薄膜.运用扫描电子显微镜(SEM)和光电子能谱仪(XPS)分别对薄膜的微观结构以及组分进行了分析;采用四探针测试仪测试了薄膜在不同温度下的方块电阻,从而确定了VO2和W掺杂VO2纳米薄膜的相变温度从341K下降到314K;最后利用紫外至红外光谱仪测试了薄膜在常温和高温下的透过率,并通过Film Wizard软件对薄膜的透过率进行拟合,获得了薄膜的光学折射率(n)和消光系数(κ)随光电子能量(E)变化的关系曲线.研究结果表明,随着W掺杂量的增加,W掺杂VO2纳米薄膜的半导体-金属相变温度逐渐下降,其光学折射率(n)和消光系数(κ)相比VO2薄膜也发生有规律的变化.
黄海燕
徐晓峰
余远春
包飞军
关键词:
相变温度
消光系数
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