秦飞
- 作品数：2 被引量：3H指数：1
- 供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程电子电信更多>>
- 钴掺杂硅溶胶的制备及其在A向蓝宝石抛光中的应用（英文）被引量：2
- 2017年
- 目的提高A向蓝宝石抛光速率。方法分别采用诱导法和种子法制备了非球形和球形钴掺杂硅溶胶,并应用于A向蓝宝石的化学机械抛光。采用扫描电子显微镜(SEM)、电感偶合等离子体发射光谱仪(ICP)和X射线光电子能谱(XPS)检测产物颗粒的粒径及其分布、形貌、元素组成及存在状态等,采用CP-4抛光机对抛光速率进行验证,并用原子力显微镜测试抛光后的材料表面粗糙度,根据抛光后产物的XPS测试结果对抛光过程中的化学反应进行分析。结果与纯硅溶胶相比,非球形钴掺杂硅溶胶抛光速率提高了37%,且表面粗糙度相近,而球形钴掺杂硅溶胶抛光速率却无明显优势。XPS结果显示,目前没有证据表明Co元素参与了化学反应。结论非球形钴掺杂硅溶胶在A向蓝宝石抛光中起到了积极作用,归因于其形状优势而非Al_2O_3与Co之间的化学反应。
- 王丹汪为磊秦飞刘卫丽施利毅宋志棠
- 关键词：钴化学机械抛光蓝宝石X射线光电子能谱
- 新型硅基抛光磨料的研究进展被引量：1
- 2017年
- 二氧化硅具有优异的抛光性能,是最重要的抛光磨料之一。然而随着新材料、新结构的出现,CMP磨料的需求出现多样化趋势,通过对纳米颗粒的物理化学性质进行微观设计达到满足不同材料抛光需求的目的成为新的研究方向。目前SiO_2基体的新型磨料包括异形磨料、混合磨料和复合磨料。混合磨料、异形磨料已经取得一定进展;复合磨料尚处于发展阶段,是未来磨料研究的主要方向和趋势。就SiO_2为基体的几种新型磨料的应用和抛光原理进行了简要说明。
- 王丹秦飞刘卫丽孔慧宋志棠施利毅
- 关键词：二氧化硅混合磨料掺杂化学机械抛光
