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刘春香

作品数：20 被引量：17H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 15篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 2篇科技成果

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 10篇单晶
  • 10篇晶片
  • 8篇抛光
  • 7篇单晶片
  • 5篇抛光片
  • 4篇砷化镓
  • 4篇抛光液
  • 3篇凸台
  • 3篇千分表
  • 3篇翘曲
  • 3篇中心位
  • 3篇中心位置
  • 3篇销孔
  • 3篇半导体
  • 3篇INP
  • 3篇测试台
  • 2篇调节剂
  • 2篇锗单晶
  • 2篇砷化镓表面
  • 2篇双氧水

机构

  • 20篇中国电子科技...

作者

  • 20篇刘春香
  • 18篇杨洪星
  • 12篇赵权
  • 10篇吕菲
  • 3篇佟丽英
  • 3篇张伟才
  • 3篇吕菲
  • 3篇于妍
  • 1篇纪秀峰
  • 1篇李响
  • 1篇王建利

传媒

  • 3篇中国电子科学...

年份

  • 2篇2017
  • 4篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2009
  • 4篇2008
  • 1篇2007
  • 4篇2006
共 20 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种可以改善半导体晶片几何参数的晶片加工方法
本发明公开了一种可以改善半导体晶片几何参数的晶片加工方法。该方法采用至少两组厚度递减的游星片对待加工晶片进行分次研磨；每次研磨过程中，在将晶片研磨到与游星片厚度相等后继续研磨一段附加研磨时间。通常，厚度相邻的两组游星片的...
林健徐永宽刘玉岭刘春香杨洪星吕菲
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一种砷化镓晶片清洗方法
本发明公开了一种砷化镓晶片清洗方法，包括以下基本步骤：1)采用第一溶液进行第一次兆声清洗；2)第一次漂洗；3)第一次干燥处理；4)用紫外臭氧清洗机清洗；5)采用第二溶液进行第二次兆声清洗；6)第二次漂洗；7)第二次干燥处...
徐永宽杨洪星刘春香吕菲
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半导体照明工程用VB-GaAs衬底材料
牛沈军李仕福兰天平王建利周传新林健赵权刘春香
在现有技术平台上，通过该项目的研究，解决了光电器件用VB-GaAs衬底材料生产中的瓶颈技术的重复性可控技术，诸如：热场设计、控制调试技术，引晶技术，成晶技术，载流子浓度控制技术，抛光片“Epi-Ready”技术等的重复可...
关键词：
关键词：照明工程
一种砷化镓晶片清洗方法
本发明公开了一种砷化镓晶片清洗方法，包括以下基本步骤：(1)采用第一溶液进行第一次兆声清洗；(2)第一次漂洗；(3)第一次干燥处理；(4)用紫外臭氧清洗机清洗；(5)采用第二溶液进行第二次兆声清洗；(6)第二次漂洗；(7...
徐永宽杨洪星刘春香吕菲
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一种可以改善半导体晶片几何参数的晶片加工方法
本发明公开了一种可以改善半导体晶片几何参数的晶片加工方法。该方法采用至少两组厚度递减的游星片对待加工晶片进行分次研磨；每次研磨过程中，在将晶片研磨到与游星片厚度相等后继续研磨一段附加研磨时间。通常，厚度相邻的两组游星片的...
林健徐永宽刘玉岭刘春香杨洪星吕菲
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一种腐蚀磷化铟单晶片的腐蚀液及腐蚀方法
本发明公开了一种腐蚀磷化铟单晶片的腐蚀液和腐蚀方法，该腐蚀液的原料包括硫酸、双氧水、水；以体积百分比计算，所述硫酸、所述双氧水和所述水的比例为（4-6）：（1-3）：（1-2）。本发明还提供了磷化铟单晶片的化学腐蚀方法，...
林健赵权刘春香吕菲杨洪星于妍佟丽英
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一种锗单晶抛光片的清洗方法
本发明公开了一种锗单晶抛光片的清洗方法。本方法采用锗单晶抛光片清洗液对锗单晶抛光片进行清洗，清洗过程分为浸泡清洗、溢流清洗以及快排冲洗三个步骤，锗单晶抛光片清洗液是由氢氟酸溶液、氧化剂溶液、去离子水三种成分组成的混合溶液...
杨洪星陈晨赵权刘春香王云彪耿莉
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一种机械化学抛光方法
本发明公开了一种机械化学抛光方法。该方法包括以下步骤：(1)将晶片放在抛光机上进行常规机械化学抛光，包括初试轻压和重压阶段；(2)在重压抛光结束后进入最终轻压阶段，停止抛光液供给，供给一定流量的清洗溶液，直到抛光结束。所...
徐永宽刘春香杨洪星吕菲
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一种改善磷化铟单晶切割片翘曲度的方法
本发明公开了一种改善磷化铟单晶切割片翘曲度的方法，该方法使用酸性腐蚀液对磷化铟切割片进行腐蚀，腐蚀过程分为两次，每次腐蚀时间为1min，每次腐蚀后放入去离子水中冲洗，两次腐蚀去除总量为2-3μm。酸性腐蚀液由硫酸、双氧水...
吕菲于妍赵权杨洪星林健刘春香张伟才
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一种单晶片厚度测量装置
本发明涉及一种单晶片厚度测量装置，该装置包括测试台、测试环、横梁和千分表；测试台一侧向上设有螺纹孔，螺纹孔的下侧为销孔，销孔的侧壁上设有顶丝孔，测试台的另一侧设有支架，测试环的上端面中心位置设有圆柱形凸台用于放置被测单晶...
唐文虎杨洪星刘春香王云彪陈晨赵权
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共2页<12>
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