吴建新
- 作品数：4 被引量：0H指数：0
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- Pd/a-Si:H界面的光电子能谱研究
- 1989年
- 本文利用光电子能谱(XPS、UPS)技术研究了Pd淀积层与离子注入制备的a-Si∶H层组成的系统.本工作分析了Pd/a-Si∶H的界面键合状态及组分分布的变化对价带谱与芯能级谱的影响,并与Pd/C-Si系统的结果进行了比较.结果表明:Pd/a-Si∶H界面具有与Pd/C-Si界面相似的电子结构;但是,Pd原子在a-Si∶H中具有较大的扩散速率,因此,处于更富Si的环境中。
- 赵特秀沈波刘洪图季明荣吴建新许振嘉
- 关键词：半导体非晶硅硅化物
- 氯对Ni（110）面上CO共吸附的影响
- 1995年
- 用ＵＰＳ、ＸＰＳ、ＡＥＳ和功函数测定等方法考察了氯对Ｎｉ（１１０）上ＣＯ共吸附的影响。预吸附的氯强烈降低了ＣＯ的吸附速度和饱和吸附量，减少了ＣＯ—Ｎｉ的平均偶极矩。ＵＰＳ和ＸＰＳ结果表明，氯的共吸附使ＣＯ的１π和Ｏ（１ｓ）移向较高的结合能，而５σ则轻微移向较低的结合能。氯能取代表面吸附的ＣＯ并伴随总功函数的下降。氯的强电负性和空间位阻减小了Ｎｉ—ＣＯ的健合作用，从而降低了ＣＯ的吸附键能，并使Ｃ—Ｏ分子键稳定化。对氯的表面电负性修饰效应进行了讨论。
- 庄叔贤吴建新刘先明屠兢季明荣汪兰清
- 关键词：一氧化碳氯XPSAESUPS
- 氯在Ni（110）面上吸阻的电子能谱研究
- 1995年
- 用ＸＰＳ，ＵＰＳ，ＡＥＳ和功函数测量等方面研究了不同温度下氯的吸附和脱附．氯在Ｎｉ（１１０）表面是解离的化学吸附．其初始粘附几率及饱和复盖度都与吸附温度有关．氯吸附的Ｎｉ（ｌ１０）表面即使加热到７００Ｋ都不能导致氯原子向体相渗进．氯在８２３－９２３Ｋ温度范围内的等温脱附动力学是１．５级的脱附．对吸附和脱附机理进行了讨论．
- 庄叔贤季明荣吴建新屠兢麻茂生K.Wandelt
- 关键词：氯XPSUPSAES
- 氯在多晶Fe-Ni合金表面吸附的光电子能谱研究
- 1990年
- 氯在多晶Fe,Ni和不同组成的Fe-Ni合金上的吸附及随后的热脱附用XPS和UPS进行了考察.在室温下的吸附是解离的,吸附动力学曲线表明氯吸附由两阶段构成:初始的快速化学吸附和随后的缓慢吸附至饱和.初始化学吸附速度次序为:Fe>Fe_(64)Ni_(36)>Fe_(18)Ni_(82)>Ni.氯在Fe-Ni合金表面吸附的XPS证明:由于Fe^(+2)和Fe^(+3)的生成引起了芯能级Fe(2P_(3/2))的位移,但没有发现Ni(2P_(3/2))的变化,说明了Fe-Cl相互作用比Ni-Cl要强得多.氯与铁的强相互作用引起了Fe在合金表面的偏析,温度越高,Fe的偏析作用越显著.
- 庄叔贤季明荣吴建新邵春明K.Wandelt
- 关键词：氯光电子能谱铁镍合金
