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税国华

作品数:36 被引量:30H指数:2
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领域

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机构

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地区

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42 条 记 录,以下是 1-10
刘玉奎
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:微电子机械系统 击穿电压 硅薄膜 MEMS 压力传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张正元
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:微电子机械系统 硅薄膜 多晶硅 电路 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐世六
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:比较器 逐次逼近型模数转换器 采样开关 逐次逼近型 SAR_ADC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨国渝
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:集成电路 硅 压力传感器 键合 MEMS器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡明雨
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:动部件 MEMS 硅衬底 硅薄膜 互补双极工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张正元
供职机构:中国电子科技集团公司第二十四研究所
研究主题:压力传感器 MEMS 硅 单片集成 硅基
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐昭焕
供职机构:中国电子科技集团公司第二十四研究所
研究主题:半导体 深槽 功率VDMOS器件 功率MOSFET器件 导电类型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曾莉
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:硼 集成电路工艺 离子注入 双极集成电路 模拟集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐岚
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:SPC 统计过程控制 半导体工艺 可靠性 化学溶液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘勇
供职机构:电子科技大学
研究主题:深槽 W波段 氮化镓 半导体 绝缘层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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