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胡红梅

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供职机构:上海集成电路研发中心更多>>
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袁伟
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:光刻 光刻机 光刻工艺 光刻版 硅片
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卢意飞
供职机构:上海集成电路研发中心
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李铭
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:淀积 光刻 刻蚀 衬底 介质层
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朱骏
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:淀积 光刻胶 刻蚀 光敏材料 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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