您的位置: 专家智库 > >

何海平

作品数:8 被引量:48H指数:3
供职机构:中国科学技术大学化学与材料科学学院材料科学与工程系更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国科学院知识创新工程更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程更多>>

领域

  • 12个理学
  • 9个电子电信
  • 5个化学工程
  • 5个电气工程
  • 5个一般工业技术
  • 3个机械工程
  • 3个自动化与计算...
  • 2个经济管理
  • 2个生物学
  • 2个金属学及工艺
  • 2个文化科学
  • 1个天文地球
  • 1个冶金工程
  • 1个动力工程及工...
  • 1个轻工技术与工...
  • 1个环境科学与工...
  • 1个核科学技术
  • 1个医药卫生
  • 1个政治法律
  • 1个自然科学总论

主题

  • 11个SI(111...
  • 10个溶胶
  • 8个碳化硅
  • 7个淀积
  • 7个准分子
  • 6个导体
  • 6个溶胶-凝胶
  • 6个热解
  • 6个热解制备
  • 6个准分子激光
  • 5个氧化锌
  • 5个OCS
  • 5个PS
  • 5个层错
  • 4个带隙
  • 4个单晶
  • 3个氮化
  • 3个氮化铝
  • 3个氮化铝薄膜
  • 3个电路

机构

  • 10个中国科学技术...
  • 6个中国科学院
  • 3个上海科学院
  • 3个中国科学院上...
  • 1个安徽大学
  • 1个复旦大学
  • 1个北京大学
  • 1个华东师范大学
  • 1个昆明贵金属研...
  • 1个西安电子科技...
  • 1个中国科技大学
  • 1个中山大学
  • 1个江苏石油化工...
  • 1个中科院上海微...
  • 1个合肥微尺度物...
  • 1个上海钢铁研究...
  • 1个日本电子株式...
  • 1个上海新傲科技...

资助

  • 13个国家自然科学...
  • 7个中国科学院知...
  • 4个上海市青年科...
  • 3个国家高技术研...
  • 3个国家重点基础...
  • 2个上海市科学技...
  • 2个上海市自然科...
  • 2个中国博士后科...
  • 2个上海市国际科...
  • 1个安徽省自然科...
  • 1个福建省自然科...
  • 1个国家科技支撑...
  • 1个基础研究重大...
  • 1个国家科技重大...
  • 1个上海-AM基...
  • 1个上海市教育发...
  • 1个上海市科学技...
  • 1个上海市科学技...
  • 1个中国科学技术...
  • 1个中国科学技术...

传媒

  • 9个人工晶体学报
  • 7个Journa...
  • 7个物理学报
  • 5个中国激光
  • 3个科学通报
  • 3个Chines...
  • 3个硅酸盐学报
  • 3个物理
  • 3个功能材料
  • 3个电子显微学报
  • 3个功能材料与器...
  • 3个压电与声光
  • 2个低温物理学报
  • 2个稀有金属材料...
  • 2个中国科学技术...
  • 2个无机材料学报
  • 2个分析测试学报
  • 2个微细加工技术
  • 2个电子元器件应...
  • 2个真空科学与技...

地区

  • 9个安徽省
  • 3个上海市
  • 1个北京市
13 条 记 录,以下是 1-10
王玉霞
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:碳化硅 SI SIC 超导体 AGI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤洪高
供职机构:中国科学技术大学化学与材料科学学院材料科学与工程系
研究主题:碳化硅 SIC 精神文明建设 晶体 SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曹颖
供职机构:中国科学技术大学化学与材料科学学院材料科学与工程系
研究主题:SI 溶胶凝胶 SIC 热解法 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭震
供职机构:中国科学技术大学化学与材料科学学院材料科学与工程系
研究主题:SI 碳化硅 溶胶凝胶 SIC薄膜 激光淀积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邹优鸣
供职机构:中国科学院
研究主题:氧化锌 磁学性质 层错 SIC SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李赟
供职机构:中国科学技术大学化学与材料科学学院材料科学与工程系
研究主题:层错 SI PS OCS 热解制备
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄继颇
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:ALN薄膜 氮化铝 离子注入 碳化硅 半导体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王连卫
供职机构:华东师范大学
研究主题:微通道板 硅 多孔硅 微通道 电化学刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林成鲁
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子注入 SOI 硅 SIMOX 铁电薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宏伟
供职机构:中国科学技术大学化学与材料科学学院材料科学与工程系
研究主题:SIO 性能研究 多孔二氧化硅 多孔 相变滞后
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
聚类工具0