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李振霞

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：河北工业大学更多>>
相关领域：自动化与计算机技术金属学及工艺更多>>

合作作者

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地区

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共 12 条 记 录，以下是 1-10
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 去除速率 螯合剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
檀柏梅
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙业林
供职机构：河北工业大学
研究主题：粗糙度 去除速率 化学机械抛光 表面粗糙度 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘利宾
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：抛光 CMP 化学机械抛光 去除速率 插塞
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田雨
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 表面粗糙度 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
边征
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 表面形貌 腐蚀速率 多晶硅太阳电池 多晶硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
江炎
供职机构：河北工业大学
研究主题：AL-MG 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
项霞
供职机构：河北工业大学
研究主题：计算机硬盘 计算机 机械抛光 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨立兵
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 抛光 化学机械平坦化 抛光液 粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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